Optical methods that provide high diffraction image quality with a spatial resolution of several to tens of nanometers and are in demand in such areas as projection lithography, X-ray microscopy, astrophysics, and fundamental research on the interaction of matter (vacuum) with ultrahigh (10²⁰ — 10²³ W cm⁻²) electromagnetic fields are reviewed in terms of fabrication and testing technologies and possible use in the 2 — 60 nm wavelength range. The current worldwide status of and recent achievements by the Institute for Physics of Microstructures of the Russian Academy of Sciences (RAS) in the field are discussed.

PACS: 41.50.+h, 42.79.−e, 95.55.Ka (all) DOI: 10.3367/UFNe.0182.201207c.0727 URL: https://ufn.ru/en/articles/2012/7/c/ 000309960400003 2-s2.0-84867566149 Citation: Barysheva M M, Pestov A E, Salashchenko N N, Toropov M N, Chkhalo N I "Precision imaging multilayer optics for soft X-rays and extreme ultraviolet bands" Phys. Usp. 55 681–699 (2012) BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks Received: 27th, June 2011, accepted: 17th, August 2011 Оригинал: Барышева М М, Пестов А Е, Салащенко Н Н, Торопов М Н, Чхало Н И «Прецизионная изображающая многослойная оптика для мягкого рентгеновского и экстремального ультрафиолетового диапазонов» УФН 182 727–747 (2012); DOI: 10.3367/UFNr.0182.201207c.0727