Работа посвящена фундаментальным проблемам изготовления и тестирования, а также применениям в диапазоне длин волн 2–60 нм оптики, обеспечивающей дифракционное качество изображений (пространственное разрешение единицы/десятки нанометров) и востребованной для проекционной литографии, рентгеновской микроскопии, астрофизики и для фундаментальных исследований в области взаимодействия вещества (вакуума) со сверхсильными (10²⁰ — 10²³ Вт см⁻²) электромагнитными полями. Сообщается о состоянии этих исследований в мире и о последних разработках в этой области, проводимых в Институте физики микроструктур (ИФМ) РАН.