Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)

Д.Б. Абраменко^а, П.С. Анциферов^а, Д.И. Астахов^а, А.Ю. Виноходов^б, И.Ю. Вичев^в, Р.Р. Гаязов^а, А.С. Грушин^в, Л.А. Дорохин^а, В.В. Иванов^а, Д.А. Ким^в, К.Н. Кошелев^а, П.В. Крайнов^г, М.С. Кривокорытов^а, В.М. Кривцун^а, Б.В. Лакатош^г, А.А. Лаш^б, В.В. Медведев^а, А.Н. Рябцев^а, Ю.В. Сидельников^а, Е.П. Снегирёв^а, А.Д. Соломянная^в, М.В. Спиридонов^д, е, И.П. Цыгвинцев^в, О.Ф. Якушев^е, А.А. Якушкин^б
^аИнститут спектроскопии РАН, ул. Физическая 5, Троицк, Москва, 108840, Российская Федерация
^бООО "ЭУФ Лабс", Сиреневый бульв. 1, Троицк, Москва, 142191, Российская Федерация
^вИнститут прикладной математики им. М.В. Келдыша РАН, Миусская пл. 4, Москва, 125047, Российская Федерация
^гМосковский физико-технический институт (национальный исследовательский университет), Институтский пер. 9, Долгопрудный, Московская обл., 141701, Российская Федерация
^дИнститут общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук, ул. Вавилова 38, Москва, 119991, Российская Федерация
^еФизический институт им. П.Н. Лебедева РАН, Ленинский проспект 53, Москва, 119991, Российская Федерация

Описаны результаты исследований, посвящённых разработке плазменных источников экстремального ультрафиолетового излучения для литографии нового поколения и разработке методов спектральной диагностики таких источников.

Текст pdf (1,5 Мб)

Скачивая файл я соглашаюсь с условиями использования.

English fulltext is available at DOI: 10.3367/UFNe.2018.06.038447

Ключевые слова: ЭУФ-литография, лазерная плазма, источники излучения
PACS: 42.82.Cr, 52.25.Os, 52.59.−f, 52.70.−m, 52.77.−j (все)
DOI: 10.3367/UFNr.2018.06.038447
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/
Web of Science

000469214700010
Scopus

2-s2.0-85070730766
ADS NASA

2019PhyU...62..304A
Цитата: Абраменко Д Б, Анциферов П С, Астахов Д И, Виноходов А Ю, Вичев И Ю, Гаязов Р Р, Грушин А С, Дорохин Л А, Иванов В В, Ким Д А, Кошелев К Н, Крайнов П В, Кривокорытов М С, Кривцун В М, Лакатош Б В, Лаш А А, Медведев В В, Рябцев А Н, Сидельников Ю В, Снегирёв Е П, Соломянная А Д, Спиридонов М В, Цыгвинцев И П, Якушев О Ф, Якушкин А А "Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)" УФН 189 323–334 (2019)

BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)

MedlineRefWorks

Русский

English

PT Journal Article
TI Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspection
AU Abramenko D B
FAU Abramenko DB
AU Antsiferov P S
FAU Antsiferov PS
AU Astakhov D I
FAU Astakhov DI
AU Vinokhodov A Yu
FAU Vinokhodov AY
AU Vichev I Yu
FAU Vichev IY
AU Gayazov R R
FAU Gayazov RR
AU Grushin A S
FAU Grushin AS
AU Dorokhin L A
FAU Dorokhin LA
AU Ivanov V V
FAU Ivanov VV
AU Kim D A
FAU Kim DA
AU Koshelev K N
FAU Koshelev KN
AU Krainov P V
FAU Krainov PV
AU Krivokorytov M S
FAU Krivokorytov MS
AU Krivtsun V M
FAU Krivtsun VM
AU Lakatosh B V
FAU Lakatosh BV
AU Lash A A
FAU Lash AA
AU Medvedev V V
FAU Medvedev VV
AU Ryabtsev A N
FAU Ryabtsev AN
AU Sidel’nikov Yu V
FAU Sidel’nikov YV
AU Snegirev E P
FAU Snegirev EP
AU Solomyannaya A D
FAU Solomyannaya AD
AU Spiridonov M V
FAU Spiridonov MV
AU Tsygvintsev I P
FAU Tsygvintsev IP
AU Yakushev O F
FAU Yakushev OF
AU Yakushkin A A
FAU Yakushkin AA
DP 10 Mar, 2019
TA Usp. Fiz. Nauk
VI 189
IP 3
PG 323-334
RX 10.3367/UFNr.2018.06.038447
URL https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/
SO Usp. Fiz. Nauk 2019 Mar 10;189(3):323-334

Поступила: 28 августа 2018, одобрена в печать: 20 июня 2018

English citation: Abramenko D B, Antsiferov P S, Astakhov D I, Vinokhodov A Yu, Vichev I Yu, Gayazov R R, Grushin A S, Dorokhin L A, Ivanov V V, Kim D A, Koshelev K N, Krainov P V, Krivokorytov M S, Krivtsun V M, Lakatosh B V, Lash A A, Medvedev V V, Ryabtsev A N, Sidel’nikov Yu V, Snegirev E P, Solomyannaya A D, Spiridonov M V, Tsygvintsev I P, Yakushev O F, Yakushkin A A “Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspection” Phys. Usp. 62 304–314 (2019); DOI: 10.3367/UFNe.2018.06.038447