Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)
Описаны результаты исследований, посвящённых разработке плазменных источников экстремального ультрафиолетового излучения для
литографии нового поколения и разработке методов спектральной диагностики таких источников.
Ключевые слова: ЭУФ-литография, лазерная плазма, источники излучения PACS:42.82.Cr, 52.25.Os, 52.59.−f, 52.70.−m, 52.77.−j (все) DOI:10.3367/UFNr.2018.06.038447 URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/ 000469214700010 2-s2.0-85070730766 2019PhyU...62..304A Цитата: Абраменко Д Б, Анциферов П С, Астахов Д И, Виноходов А Ю, Вичев И Ю, Гаязов Р Р, Грушин А С, Дорохин Л А, Иванов В В, Ким Д А, Кошелев К Н, Крайнов П В, Кривокорытов М С, Кривцун В М, Лакатош Б В, Лаш А А, Медведев В В, Рябцев А Н, Сидельников Ю В, Снегирёв Е П, Соломянная А Д, Спиридонов М В, Цыгвинцев И П, Якушев О Ф, Якушкин А А "Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)" УФН189 323–334 (2019)
PT Journal Article
TI Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)
AU Абраменко Д Б
FAU Абраменко ДБ
AU Анциферов П С
FAU Анциферов ПС
AU Астахов Д И
FAU Астахов ДИ
AU Виноходов А Ю
FAU Виноходов АЮ
AU Вичев И Ю
FAU Вичев ИЮ
AU Гаязов Р Р
FAU Гаязов РР
AU Грушин А С
FAU Грушин АС
AU Дорохин Л А
FAU Дорохин ЛА
AU Иванов В В
FAU Иванов ВВ
AU Ким Д А
FAU Ким ДА
AU Кошелев К Н
FAU Кошелев КН
AU Крайнов П В
FAU Крайнов ПВ
AU Кривокорытов М С
FAU Кривокорытов МС
AU Кривцун В М
FAU Кривцун ВМ
AU Лакатош Б В
FAU Лакатош БВ
AU Лаш А А
FAU Лаш АА
AU Медведев В В
FAU Медведев ВВ
AU Рябцев А Н
FAU Рябцев АН
AU Сидельников Ю В
FAU Сидельников ЮВ
AU Снегирёв Е П
FAU Снегирёв ЕП
AU Соломянная А Д
FAU Соломянная АД
AU Спиридонов М В
FAU Спиридонов МВ
AU Цыгвинцев И П
FAU Цыгвинцев ИП
AU Якушев О Ф
FAU Якушев ОФ
AU Якушкин А А
FAU Якушкин АА
DP 10 Mar, 2019
TA Усп. физ. наук
VI 189
IP 3
PG 323-334
RX 10.3367/UFNr.2018.06.038447
URL https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/
SO Усп. физ. наук 2019 Mar 10;189(3):323-334
Поступила: 28 августа 2018, одобрена в печать: 20 июня 2018
English citation: Abramenko D B, Antsiferov P S, Astakhov D I, Vinokhodov A Yu, Vichev I Yu, Gayazov R R, Grushin A S, Dorokhin L A, Ivanov V V, Kim D A, Koshelev K N, Krainov P V, Krivokorytov M S, Krivtsun V M, Lakatosh B V, Lash A A, Medvedev V V, Ryabtsev A N, Sidel’nikov Yu V, Snegirev E P, Solomyannaya A D, Spiridonov M V, Tsygvintsev I P, Yakushev O F, Yakushkin A A “Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspection” Phys. Usp.62 304–314 (2019); DOI: 10.3367/UFNe.2018.06.038447