RSS-ленты
РусскийEnglish
Выпуск 12, 2025
Том год страница
Выпуски Авторы PACS Подписчикам Для авторов

Выпуски

 / 

2019

 / 

Март

←  →

Конференции и симпозиумы


Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)

 а,  а,  а,  б,  в,  а,  в,  а,  а,  в,  а,  г,  а,  а,  г,  б,  а,  а,  а,  а,  в,  д, е,  в,  е,  б
а Институт спектроскопии РАН, ул. Физическая 5, Троицк, Москва, 108840, Российская Федерация
б ООО "ЭУФ Лабс", Сиреневый бульв. 1, Троицк, Москва, 142191, Российская Федерация
в Институт прикладной математики им. М.В. Келдыша РАН, Миусская пл. 4, Москва, 125047, Российская Федерация
г Московский физико-технический институт (Национальный исследовательский университет), Институтский пер. 9, Долгопрудный, Московская обл., 141701, Российская Федерация
д Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук, ул. Вавилова 38, Москва, 119991, Российская Федерация
е Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН, Ленинский проспект 53, Москва, 119991, Российская Федерация

Описаны результаты исследований, посвящённых разработке плазменных источников экстремального ультрафиолетового излучения для литографии нового поколения и разработке методов спектральной диагностики таких источников.

Текст pdf (1,5 Мб)
English fulltext is available at DOI: 10.3367/UFNe.2018.06.038447
Ключевые слова: ЭУФ-литография, лазерная плазма, источники излучения
PACS: 42.82.Cr, 52.25.Os, 52.59.−f, 52.70.−m, 52.77.−j (все)
DOI: 10.3367/UFNr.2018.06.038447
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/
000469214700010
2-s2.0-85070730766
2019PhyU...62..304A
Цитата: Абраменко Д Б, Анциферов П С, Астахов Д И, Виноходов А Ю, Вичев И Ю, Гаязов Р Р, Грушин А С, Дорохин Л А, Иванов В В, Ким Д А, Кошелев К Н, Крайнов П В, Кривокорытов М С, Кривцун В М, Лакатош Б В, Лаш А А, Медведев В В, Рябцев А Н, Сидельников Ю В, Снегирёв Е П, Соломянная А Д, Спиридонов М В, Цыгвинцев И П, Якушев О Ф, Якушкин А А "Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)" УФН 189 323–334 (2019)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

Поступила: 28 августа 2018, 20 июня 2018

English citation: Abramenko D B, Antsiferov P S, Astakhov D I, Vinokhodov A Yu, Vichev I Yu, Gayazov R R, Grushin A S, Dorokhin L A, Ivanov V V, Kim D A, Koshelev K N, Krainov P V, Krivokorytov M S, Krivtsun V M, Lakatosh B V, Lash A A, Medvedev V V, Ryabtsev A N, Sidel’nikov Yu V, Snegirev E P, Solomyannaya A D, Spiridonov M V, Tsygvintsev I P, Yakushev O F, Yakushkin A A “Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspection” Phys. Usp. 62 304–314 (2019); DOI: 10.3367/UFNe.2018.06.038447

Список литературы (71) Статьи, ссылающиеся на эту (23) ↓ Похожие статьи (20)

  1. Guseva V E, Nechai A N et al Instrum Exp Tech 68 (2) 291 (2025)
  2. Perekalov A A, Chkhalo N I et al Meas. Sci. Technol. 36 (10) 105415 (2025)
  3. Garakhin S A, Zabrodin I G et al Tech. Phys. 69 (4) 870 (2024)
  4. Bay A A Math Models Comput Simul 16 (S2) S181 (2024)
  5. Guseva V E, Nechay A N et al Tech. Phys. 69 (4) 876 (2024)
  6. Chkhalo N I Russ Microelectron 53 (5) 397 (2024)
  7. Garakhin S A, Dubinin I S et al Tech. Phys. 69 (4) 864 (2024)
  8. Reunov D G, Malyshev I V et al Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования (8) 16 (2023)
  9. Reunov D G, Malyshev I V et al J. Surf. Investig. 17 (4) 859 (2023)
  10. Guseva V E, Nechay A N et al Appl. Phys. B 129 (10) (2023)
  11. Guseva V E, Korepanov M A et al Instrum Exp Tech 66 (4) 702 (2023)
  12. Guseva V  E, Garakhin S  A et al Bull. Lebedev Phys. Inst. 50 (S9) S1042 (2023)
  13. Гусева В Е, Корепанов М А и др Приборы и техника эксперимента (4) 145 (2023)
  14. Nechay A N, Perekalov A A et al Appl. Phys. B 129 (3) (2023)
  15. Chkhalo N I, Durov K V et al J. Surf. Investig. 17 (S1) S226 (2023)
  16. Chkhalo N I, Salashchenko N N J. Surf. Investig. 17 (1) 307 (2023)
  17. ZOU Kai, ZHANG Wenbin et al Journal of Inorganic Materials 38 (8) 987 (2023)
  18. Kalinin N V, Timshina M V Tech. Phys. Lett. 48 (3) 119 (2022)
  19. Khokhlov V A, Ashitkov S I et al J. Phys.: Conf. Ser. 1787 (1) 012022 (2021)
  20. Nechay A N, Perekalov A A et al Opt. Spectrosc. 129 (2) 185 (2021)
  21. Vodop’yanov A V, Garakhin S A et al Quantum Electron. 51 (8) 700 (2021)
  22. Vichev I Yu, Kim D A et al KIAM Prepr. (56) 1 (2020)
  23. Grigoryev S Yu, Lakatosh B V et al Phys. Rev. Applied 10 (6) (2018)
© Успехи физических наук, 1918–2025
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение