Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)
Описаны результаты исследований, посвящённых разработке плазменных источников экстремального ультрафиолетового излучения для
литографии нового поколения и разработке методов спектральной диагностики таких источников.
Ключевые слова: ЭУФ-литография, лазерная плазма, источники излучения PACS:42.82.Cr, 52.25.Os, 52.59.−f, 52.70.−m, 52.77.−j (все) DOI:10.3367/UFNr.2018.06.038447 URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/ 000469214700010 2-s2.0-85070730766 2019PhyU...62..304A Цитата: Абраменко Д Б, Анциферов П С, Астахов Д И, Виноходов А Ю, Вичев И Ю, Гаязов Р Р, Грушин А С, Дорохин Л А, Иванов В В, Ким Д А, Кошелев К Н, Крайнов П В, Кривокорытов М С, Кривцун В М, Лакатош Б В, Лаш А А, Медведев В В, Рябцев А Н, Сидельников Ю В, Снегирёв Е П, Соломянная А Д, Спиридонов М В, Цыгвинцев И П, Якушев О Ф, Якушкин А А "Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)" УФН189 323–334 (2019)
TY JOUR
TI Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)
AU Абраменко, Д. Б.
AU Анциферов, П. С.
AU Астахов, Д. И.
AU Виноходов, А. Ю.
AU Вичев, И. Ю.
AU Гаязов, Р. Р.
AU Грушин, А. С.
AU Дорохин, Л. А.
AU Иванов, В. В.
AU Ким, Д. А.
AU Кошелев, К. Н.
AU Крайнов, П. В.
AU Кривокорытов, М. С.
AU Кривцун, В. М.
AU Лакатош, Б. В.
AU Лаш, А. А.
AU Медведев, В. В.
AU Рябцев, А. Н.
AU Сидельников, Ю. В.
AU Снегирёв, Е. П.
AU Соломянная, А. Д.
AU Спиридонов, М. В.
AU Цыгвинцев, И. П.
AU Якушев, О. Ф.
AU Якушкин, А. А.
PB Успехи физических наук
PY 2019
JO Успехи физических наук
JF Успехи физических наук
JA Усп. физ. наук
VL 189
IS 3
SP 323-334
UR https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/
ER https://doi.org/10.3367/UFNr.2018.06.038447
Поступила: 28 августа 2018, одобрена в печать: 20 июня 2018
English citation: Abramenko D B, Antsiferov P S, Astakhov D I, Vinokhodov A Yu, Vichev I Yu, Gayazov R R, Grushin A S, Dorokhin L A, Ivanov V V, Kim D A, Koshelev K N, Krainov P V, Krivokorytov M S, Krivtsun V M, Lakatosh B V, Lash A A, Medvedev V V, Ryabtsev A N, Sidel’nikov Yu V, Snegirev E P, Solomyannaya A D, Spiridonov M V, Tsygvintsev I P, Yakushev O F, Yakushkin A A “Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspection” Phys. Usp.62 304–314 (2019); DOI: 10.3367/UFNe.2018.06.038447