Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)

Д.Б. Абраменко^а, П.С. Анциферов^а, Д.И. Астахов^а, А.Ю. Виноходов^б, И.Ю. Вичев^в, Р.Р. Гаязов^а, А.С. Грушин^в, Л.А. Дорохин^а, В.В. Иванов^а, Д.А. Ким^в, К.Н. Кошелев^а, П.В. Крайнов^г, М.С. Кривокорытов^а, В.М. Кривцун^а, Б.В. Лакатош^г, А.А. Лаш^б, В.В. Медведев^а, А.Н. Рябцев^а, Ю.В. Сидельников^а, Е.П. Снегирёв^а, А.Д. Соломянная^в, М.В. Спиридонов^д, е, И.П. Цыгвинцев^в, О.Ф. Якушев^е, А.А. Якушкин^б
^аИнститут спектроскопии РАН, ул. Физическая 5, Троицк, Москва, 108840, Российская Федерация
^бООО "ЭУФ Лабс", Сиреневый бульв. 1, Троицк, Москва, 142191, Российская Федерация
^вИнститут прикладной математики им. М.В. Келдыша РАН, Миусская пл. 4, Москва, 125047, Российская Федерация
^гМосковский физико-технический институт (национальный исследовательский университет), Институтский пер. 9, Долгопрудный, Московская обл., 141701, Российская Федерация
^дИнститут общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук, ул. Вавилова 38, Москва, 119991, Российская Федерация
^еФизический институт им. П.Н. Лебедева РАН, Ленинский проспект 53, Москва, 119991, Российская Федерация

Описаны результаты исследований, посвящённых разработке плазменных источников экстремального ультрафиолетового излучения для литографии нового поколения и разработке методов спектральной диагностики таких источников.

Текст pdf (1,5 Мб)

Скачивая файл я соглашаюсь с условиями использования.

English fulltext is available at DOI: 10.3367/UFNe.2018.06.038447

Ключевые слова: ЭУФ-литография, лазерная плазма, источники излучения
PACS: 42.82.Cr, 52.25.Os, 52.59.−f, 52.70.−m, 52.77.−j (все)
DOI: 10.3367/UFNr.2018.06.038447
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/
Web of Science

000469214700010
Scopus

2-s2.0-85070730766
ADS NASA

2019PhyU...62..304A
Цитата: Абраменко Д Б, Анциферов П С, Астахов Д И, Виноходов А Ю, Вичев И Ю, Гаязов Р Р, Грушин А С, Дорохин Л А, Иванов В В, Ким Д А, Кошелев К Н, Крайнов П В, Кривокорытов М С, Кривцун В М, Лакатош Б В, Лаш А А, Медведев В В, Рябцев А Н, Сидельников Ю В, Снегирёв Е П, Соломянная А Д, Спиридонов М В, Цыгвинцев И П, Якушев О Ф, Якушкин А А "Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)" УФН 189 323–334 (2019)

BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)Medline

RefWorks

Русский

English

RT Journal
T1 Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)
A1 Абраменко,Д.Б.
A1 Анциферов,П.С.
A1 Астахов,Д.И.
A1 Виноходов,А.Ю.
A1 Вичев,И.Ю.
A1 Гаязов,Р.Р.
A1 Грушин,А.С.
A1 Дорохин,Л.А.
A1 Иванов,В.В.
A1 Ким,Д.А.
A1 Кошелев,К.Н.
A1 Крайнов,П.В.
A1 Кривокорытов,М.С.
A1 Кривцун,В.М.
A1 Лакатош,Б.В.
A1 Лаш,А.А.
A1 Медведев,В.В.
A1 Рябцев,А.Н.
A1 Сидельников,Ю.В.
A1 Снегирёв,Е.П.
A1 Соломянная,А.Д.
A1 Спиридонов,М.В.
A1 Цыгвинцев,И.П.
A1 Якушев,О.Ф.
A1 Якушкин,А.А.
PB Успехи физических наук
PY 2019
FD 10 Mar, 2019
JF Успехи физических наук
JO Усп. физ. наук
VO 189
IS 3
SP 323-334
DO 10.3367/UFNr.2018.06.038447
LK https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/

Поступила: 28 августа 2018, одобрена в печать: 20 июня 2018

English citation: Abramenko D B, Antsiferov P S, Astakhov D I, Vinokhodov A Yu, Vichev I Yu, Gayazov R R, Grushin A S, Dorokhin L A, Ivanov V V, Kim D A, Koshelev K N, Krainov P V, Krivokorytov M S, Krivtsun V M, Lakatosh B V, Lash A A, Medvedev V V, Ryabtsev A N, Sidel’nikov Yu V, Snegirev E P, Solomyannaya A D, Spiridonov M V, Tsygvintsev I P, Yakushev O F, Yakushkin A A “Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspection” Phys. Usp. 62 304–314 (2019); DOI: 10.3367/UFNe.2018.06.038447