RSS-ленты
РусскийEnglish
Выпуск 12, 2024
Том год страница
Выпуски Авторы PACS Подписчикам Для авторов

Выпуски

 / 

2019

 / 

Март

←  →

Конференции и симпозиумы


Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)

 а,  а,  а,  б,  в,  а,  в,  а,  а,  в,  а,  г,  а,  а,  г,  б,  а,  а,  а,  а,  в,  д, е,  в,  е,  б
а Институт спектроскопии РАН, ул. Физическая 5, Троицк, Москва, 108840, Российская Федерация
б ООО "ЭУФ Лабс", Сиреневый бульв. 1, Троицк, Москва, 142191, Российская Федерация
в Институт прикладной математики им. М.В. Келдыша РАН, Миусская пл. 4, Москва, 125047, Российская Федерация
г Московский физико-технический институт (Национальный исследовательский университет), Институтский пер. 9, Долгопрудный, Московская обл., 141701, Российская Федерация
д Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук, ул. Вавилова 38, Москва, 119991, Российская Федерация
е Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН, Ленинский проспект 53, Москва, 119991, Российская Федерация

Описаны результаты исследований, посвящённых разработке плазменных источников экстремального ультрафиолетового излучения для литографии нового поколения и разработке методов спектральной диагностики таких источников.

Текст pdf (1,5 Мб)
English fulltext is available at DOI: 10.3367/UFNe.2018.06.038447
Ключевые слова: ЭУФ-литография, лазерная плазма, источники излучения
PACS: 42.82.Cr, 52.25.Os, 52.59.−f, 52.70.−m, 52.77.−j (все)
DOI: 10.3367/UFNr.2018.06.038447
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/
000469214700010
2-s2.0-85070730766
2019PhyU...62..304A
Цитата: Абраменко Д Б, Анциферов П С, Астахов Д И, Виноходов А Ю, Вичев И Ю, Гаязов Р Р, Грушин А С, Дорохин Л А, Иванов В В, Ким Д А, Кошелев К Н, Крайнов П В, Кривокорытов М С, Кривцун В М, Лакатош Б В, Лаш А А, Медведев В В, Рябцев А Н, Сидельников Ю В, Снегирёв Е П, Соломянная А Д, Спиридонов М В, Цыгвинцев И П, Якушев О Ф, Якушкин А А "Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)" УФН 189 323–334 (2019)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

Поступила: 28 августа 2018, 20 июня 2018

English citation: Abramenko D B, Antsiferov P S, Astakhov D I, Vinokhodov A Yu, Vichev I Yu, Gayazov R R, Grushin A S, Dorokhin L A, Ivanov V V, Kim D A, Koshelev K N, Krainov P V, Krivokorytov M S, Krivtsun V M, Lakatosh B V, Lash A A, Medvedev V V, Ryabtsev A N, Sidel’nikov Yu V, Snegirev E P, Solomyannaya A D, Spiridonov M V, Tsygvintsev I P, Yakushev O F, Yakushkin A A “Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspection” Phys. Usp. 62 304–314 (2019); DOI: 10.3367/UFNe.2018.06.038447

Список литературы (71) ↓ Статьи, ссылающиеся на эту (20) Похожие статьи (20)

  1. Wagner C, Harned N Nature Photon. 4 24 (2010)
  2. Moors R J. Micro Nanolithogr. MEMS MOEMS 11 021102 (2012)
  3. Hosler E R, Wood O R X-Ray Lasers 2016, Proc. of the 15th Intern. Conf. on X-Ray Lasers (Eds T Kawachi, S V Bulanov, H Daido, Y Kato) (Cham: Springer, 2018) p. 351
  4. Fujimoto J J. Micro Nanolithogr. MEMS MOEMS 11 021111 (2012)
  5. Fomenkov I V J. Micro Nanolithogr. MEMS MOEMS 11 021110 (2012)
  6. Fomenkov I Adv. Opt. Technol. 6 173 (2017)
  7. Jin F, Richardson M Appl. Opt. 34 5750 (1995)
  8. Klosner M A Opt. Lett. 22 34 (1997)
  9. Klosner M A, Silfvast W T Opt. Lett. 23 1609 (1998)
  10. Koshelev K SeMaTech EUV Source Workshop, 2002
  11. Churilov S, Ryabtsev A Phys. Scripta 73 614 (2006)
  12. Чурчилов С С, Рябцев А Н Оптика и спектроскопия 101 181 (2006); Churilov S, Ryabtsev A Opt. Spectrosc. 101 169 (2006)
  13. Louis E Prog. Surf. Sci. 86 255 (2011)
  14. Banine V Y, Koshelev K N, Swinkels G H P M J. Phys. D 44 253001 (2011)
  15. Schriever G t al. J. Micro Nanolithogr. MEMS MOEMS 11 021104 (2012)
  16. Кошелев К Р, Банин В Е, Салащенко Н Н УФН 177 777 (2007); Koshelev K N, Banine V E, Salashchenko N N Phys. Usp. 50 741 (2007)
  17. Wagenaars E ey al. Appl. Phys. Lett. 92 181501 (2008)
  18. Koshelev K J. Micro Nanolithogr. MEMS MOEMS 11 021103 (2012)
  19. Fomenkov I V EUV Lithography (Ed. V Bakshi) (Bellingham, WA: SPIE Press) 3 (2018)
  20. Feldmann H, Ruoff J, Dinger U 2014 Intern. Workshop on EUV and Soft X-Ray Sources, November 3 - 6, 2014, Dublin, Ireland
  21. Vinokhodov A Rev. Sci. Instrum. 87 103304 (2016)
  22. Никифоров А Ф, Новиков В Г, Уваров В Б Квантово-статистические модели высокотемпературной плазмы. Методы расчета росселандовых пробегов и уравнений состояния (М.: Физматлит, 2000); Пер. на англ. яз., Nikiforov A F, Novikov V G, Uvarov V B Quantum-Statistical Models of Hot Dense Matter. Methods for Computation Opacity and Equation of State ((Basel: Birkhäuser Verlag, 2005)
  23. THERMOS — комплекс программ и банк атомных данных, http://www.keldysh.ru/thermos
  24. Novikov V G Modern Methods in Collisional-Radiative Modeling of Plasmas (Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics) Vol. 90 (Ed. Yu Ralchenko) (Cham: Springer, 2016) p. 105
  25. Abdallah J, Sherrill M E High Energy Density Phys. 4 124 (2008)
  26. Cowan R D The Theory of Atomic Structure and Spectra (Berkeley, CA: Univ. of California Press, 1981)
  27. Gu M F Can. J. Phys. 86 675 (2008)
  28. Tolstikhina I EUV Sources for Lithography (Ed. V Bakshi) (Bellingham, WA: SPIE Press, 2006) p. 113
  29. Lotz W Z. Phys. 206 205 (1967)
  30. Lotz W Z. Phys. 216 241 (1968)
  31. Lotz W Z. Phys. A 220 466 (1969)
  32. Lotz W Z. Phys. A 232 101 (1970)
  33. Regemorter H V Astrophys. J. 136 906 (1962)
  34. Kramers H London Edinburgh Dublin Philos. Mag. J. Sci. 46 836 (1923)
  35. Жданов В П ЖЭТФ 75 1214 (1978); Zhdanov V P Sov. JETP 48 611 (1978)
  36. Basko M M Phys. Plasmas 23 083114 (2016)
  37. Новиков В Г, Соломянная А Д ТВТ 36 858 (1998); Novikov V G, Solomyannaya A D High Temp. 36 835 (1998)
  38. Novikov V G, Zakharov S V J. Quant. Spectrosc. Radiat. Transf. 81 339 (2003)
  39. Novikov V G High Energy Density Phys. 3 198 (2007)
  40. Matsukuma H Appl. Phys. Lett. 107 121103 (2015)
  41. Виноходов А Ю и др Квантовая электроника 46 23 (2016); Vinokhodov A Yu Quantum Electron. 46 23 (2016)
  42. Krivokorytov M S Phys. Rev. E
  43. Basko M M Laser Phys. Lett. 14 036001 (2017)
  44. Krivokorytov M S Sci. Rep. 8 597 (2018)
  45. Grigoryev S Yu Phys. Rev. Applied 10 064009 (2018)
  46. Basko M M Laser Phys. Lett. 14 036001 (2017)
  47. Kurilovich D Phys. Rev. Appl. 6 014018 (2016)
  48. Kurilovich D Phys. Plasmas 25 012709 (2018)
  49. Reijers S A J. Appl. Phys. 124 013102 (2018)
  50. O'Sullivan G, Kilbane D, D'Arcy R J. Mod. Opt. 59 855 (2012)
  51. Koshelev K J. Micro Nanolithogr. MEMS MOEMS 11 021112 (2012)
  52. Harilal S S, O'Shay B, Tillack M S J. Appl. Phys. 98 036102 (2005)
  53. Ueno Y Appl. Phys. Lett. 92 211503 (2008)
  54. Elg D T J. Micro Nanolithogr. MEMS MOEMS 14 013506 (2015)
  55. Bleiner D, Lippert T J. Appl. Phys. 106 123301 (2009)
  56. Nakamura D J. Appl. Phys. 102 123310 (2007)
  57. Harilal S S Appl. Phys. B 86 547 (2007)
  58. van Herpen M M J W Chem. Phys. Lett. 484 197 (2010)
  59. Abramenko D B Appl. Phys. Lett. 112 164102 (2018)
  60. Astakhov D 2016 Intern. Workshop on EUV and Soft X-Ray Sources, November 7 - 9, 2016, Amsterdam, The Netherlands (Bellingham, WA: SPIE Press, 2016)
  61. Ugur D Chem. Phys. Lett. 552 122 (2012)
  62. Antsiferov P S et al. US Patent US9476841B1 (2016)
  63. Sopkin Yu V Phys. Lett. A 152 215 (1991)
  64. Анциферов П С и др ПТЭ (5) 121 (2015); Antsiferov P S Instrum. Exp. Tech. 58 696 (2015)
  65. Hirata M Rev. Sci. Instrum. 61 2566 (1990)
  66. Kita T Appl. Opt. 22 512 (1983)
  67. Вишняков Е А, Шатохин А Н, Рагозин Е Н Квантовая электроника 45 371 (2015); Vishnyakov E A, Shatokhin A N, Ragozin E N Quantum Electron. 45 371 (2015)
  68. Вишняков Е А и др Квантовая электроника 46 953 (2016); Vishnyakov E A et al Quantum Electron. 46 953 (2016)
  69. Antsiferov P S, Dorokhin L A, Krainov P V Rev. Sci. Instrum. 87 053106 (2016)
  70. Myers D W et al Proc. SPIE 5751 248 (2005)
  71. Turkot B 2018 EUVL Workshop, June 11 - 14, 2018, Berkeley, CA, USA
© Успехи физических наук, 1918–2024
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение