Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)
Описаны результаты исследований, посвящённых разработке плазменных источников экстремального ультрафиолетового излучения для
литографии нового поколения и разработке методов спектральной диагностики таких источников.
Ключевые слова: ЭУФ-литография, лазерная плазма, источники излучения PACS:42.82.Cr, 52.25.Os, 52.59.−f, 52.70.−m, 52.77.−j (все) DOI:10.3367/UFNr.2018.06.038447 URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/ 000469214700010 2-s2.0-85070730766 2019PhyU...62..304A Цитата: Абраменко Д Б, Анциферов П С, Астахов Д И, Виноходов А Ю, Вичев И Ю, Гаязов Р Р, Грушин А С, Дорохин Л А, Иванов В В, Ким Д А, Кошелев К Н, Крайнов П В, Кривокорытов М С, Кривцун В М, Лакатош Б В, Лаш А А, Медведев В В, Рябцев А Н, Сидельников Ю В, Снегирёв Е П, Соломянная А Д, Спиридонов М В, Цыгвинцев И П, Якушев О Ф, Якушкин А А "Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)" УФН189 323–334 (2019)
@article{Abramenko:2019,author = {D. B. Abramenko and P. S. Antsiferov and D. I. Astakhov and A. Yu. Vinokhodov and I. Yu. Vichev and R. R. Gayazov and A. S. Grushin and L. A. Dorokhin and V. V. Ivanov and D. A. Kim and K. N. Koshelev and P. V. Krainov and M. S. Krivokorytov and V. M. Krivtsun and B. V. Lakatosh and A. A. Lash and V. V. Medvedev and A. N. Ryabtsev and Yu. V. Sidel’nikov and E. P. Snegirev and A. D. Solomyannaya and M. V. Spiridonov and I. P. Tsygvintsev and O. F. Yakushev and A. A. Yakushkin},title = {Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspection},publisher = {Uspekhi Fizicheskikh Nauk},year = {2019},journal = {Usp. Fiz. Nauk},volume = {189},number = {3},pages = {323-334},url = {https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/},doi = {10.3367/UFNr.2018.06.038447}}
Поступила: 28 августа 2018, одобрена в печать: 20 июня 2018
English citation: Abramenko D B, Antsiferov P S, Astakhov D I, Vinokhodov A Yu, Vichev I Yu, Gayazov R R, Grushin A S, Dorokhin L A, Ivanov V V, Kim D A, Koshelev K N, Krainov P V, Krivokorytov M S, Krivtsun V M, Lakatosh B V, Lash A A, Medvedev V V, Ryabtsev A N, Sidel’nikov Yu V, Snegirev E P, Solomyannaya A D, Spiridonov M V, Tsygvintsev I P, Yakushev O F, Yakushkin A A “Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspection” Phys. Usp.62 304–314 (2019); DOI: 10.3367/UFNe.2018.06.038447