Issues

 / 

1981

 / 

August

  

Meetings and conferences


Electronic processes in metal-silicon nitride-silicon dioxide-semiconductor (MNOS) structures

 a, ,
a Lebedev Physical Institute, Russian Academy of Sciences, Leninsky prosp. 53, Moscow, 119991, Russian Federation
Text can be downloaded in Russian. English translation is available here.
PACS: 01.10.Fv
DOI: 10.1070/PU1981v024n08ABEH004853
URL: https://ufn.ru/en/articles/1981/8/j/
Citation: Basov N G, Plotnikov A F, Seleznev V N "Electronic processes in metal-silicon nitride-silicon dioxide-semiconductor (MNOS) structures" Sov. Phys. Usp. 24 727–728 (1981)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

Оригинал: Басов Н Г, Плотников А Ф, Селезнев В Н «Электронные процессы в структурах маталл — нитрид кремния — двуокись кремния — полупроводник (МНОП)» УФН 134 747–748 (1981); DOI: 10.3367/UFNr.0134.198108k.0747

© 1918–2019 Uspekhi Fizicheskikh Nauk
Email: ufn@ufn.ru Editorial office contacts About the journal Terms and conditions