М.С. Ковалев†а,
И.М. Подлесныха,
Р.И. Баталова,б,
С.И. Кудряшова аФизический институт им. П.Н. Лебедева РАН, Ленинский проспект 53, Москва, 119991, Российская Федерация бКазанский физико-технический институт им. Е.К. Завойского ФИЦ Казанский научный центр РАН, Сибирский тракт 10/7, Казань, 420029, Российская Федерация
Сверхлегирование — введение примесей в полупроводники с концентрациями, превышающими равновесную растворимость на порядки величины (∼ 1020 см−3), — открывает путь к формированию примесных зон в запрещённой зоне кремния. Внедрение халькогенов (S, Se, Te) позволяет достичь высоких значений коэффициента поглощения (102—104 см−1) в инфракрасном диапазоне (1—6 мкм) за счёт переходов "примесь—зона". Обзор охватывает механизмы формирования примесных состояний, методы синтеза (ионная имплантация, лазерная обработка), а также структурные, электрические и оптические свойства. Особый фокус — на применении в инфракрасных фотоприёмниках, работающих при комнатной температуре, и решении проблем нестабильности (сегрегация, дефекты) через оптимизацию отжига, селективное легирование и гетероструктуры.
Ключевые слова: кремний, халькогены, легирование, ионная имплантация, импульсный лазерный отжиг, плавление, кристаллизация, глубокие уровни, примесная зона, фотоприёмник PACS:71.55.−i DOI: URL: https://ufn.ru/ru/articles/2026/6/c/ Цитата: Ковалев М С, Подлесных И М, Баталов Р И, Кудряшов С И "Инфракрасная фотопроводимость кремния, легированного халькогенами" УФН196 601–614 (2026)
Поступила: 16 сентября 2025, доработана: 16 декабря 2025, одобрена в печать: 17 декабря 2025
Таскин А А "Комплексообразование в кремнии, легированном селеном" Дисс. ... канд. физ.-мат. наук (Новосибирск: Ин-т физики полупроводников СО РАН, 2000)
Bube R Photoconductivity of Solids (New York: John Wiley and Sons, 1960)
Чистохин И Б "Автоколебания и релаксации фототока в кремнии, легированном селеном" Дисс. ... канд. физ.-мат. наук (Новосибирск: Ин-т физики полупроводников СО РАН, 1998)
Султанов Н А ФТП8 1977 (1974); Sultanov N A Sov. Phys. Semicond.8 1148 (1975)
Жданович Н С, Козлов Ю И ФТП10 1846 (1976); Zhdanovich N S, Kozlov Yu I Sov. Phys. Semicond.10 1102 (1976)
Krich J J et al Physics, Simulation, and Photonic Engineering of Photovoltaic Devices III (Proc. SPIE, Vol. 8981, Eds A Freundlich, J-F Guillemoles) (San Francisco, CA: SPIE, 2014) p. 89810O