Выпуски

 / 

2008

 / 

Май

  

Из текущей литературы


Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе


Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, Физический факультет, Ленинские горы 1 стр. 2, Москва, 119991, Российская Федерация

Плазменные реакторы и источники ионов, принцип действия которых основан на индуктивном высокочастотном (ВЧ) разряде низкого давления, уже в течение нескольких десятилетий являются важнейшей составляющей современных земных и космических технологий. Однако постоянно возрастающие и изменяющиеся требования плазменных технологий требуют усовершенствования старых моделей устройств и создания их новых перспективных моделей. Большое значение при разработке индуктивных источников плазмы имеет обеспечение условий, при которых плазма эффективно поглощает ВЧ-мощность. В последние годы стало очевидным, что в индуктивном ВЧ-разряде низкого давления мощность ВЧ-генератора распределяется между активным сопротивлением внешней цепи и плазмой, причем в плазму мощность поступает по двум каналам: индуктивному, существующему благодаря току, текущему по индуктору или антенне, и емкостному, обусловленному наличием емкостной связи между антенной и плазмой. Рассмотрены особенности поведения индуктивного ВЧ-разряда, связанные с перераспределением ВЧ-мощности между каналами, проанализированы механизмы поглощения ВЧ-мощности. Обсуждаются возможности оптимизации источников плазмы, работающих на индуктивном ВЧ-разряде.

Текст pdf (841 Кб)
English fulltext is available at DOI: 10.1070/PU2008v051n05ABEH006422
PACS: 52.40.Fd, 52.50.−b, 52.80.Pi (все)
DOI: 10.3367/UFNr.0178.200805f.0519
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2008/5/f/
000259376200006
2-s2.0-51549088632
2008PhyU...51..493K
Цитата: Кралькина Е А "Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе" УФН 178 519–540 (2008)
BibTex BibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks
Русский English
%0 Journal Article
%T Low-pressure radio-frequency inductive discharge and possibilities of optimizing inductive plasma sources
%A E. A. Kral’kina
%I Uspekhi Fizicheskikh Nauk
%D 2008
%J Usp. Fiz. Nauk
%V 178
%N 5
%P 519-540
%U https://ufn.ru/ru/articles/2008/5/f/
%U https://doi.org/10.3367/UFNr.0178.200805f.0519

English citation: Kral’kina E A “Low-pressure radio-frequency inductive discharge and possibilities of optimizing inductive plasma sourcesPhys. Usp. 51 493–512 (2008); DOI: 10.1070/PU2008v051n05ABEH006422

© Успехи физических наук, 1918–2024
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение