RSS-ленты
РусскийEnglish
Выпуск 11, 2024
Том год страница
Выпуски Авторы PACS Подписчикам Для авторов

Выпуски

 / 

2008

 / 

Май

←  →

Из текущей литературы


Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе


Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, Физический факультет, Ленинские горы 1 стр. 2, Москва, 119991, Российская Федерация

Плазменные реакторы и источники ионов, принцип действия которых основан на индуктивном высокочастотном (ВЧ) разряде низкого давления, уже в течение нескольких десятилетий являются важнейшей составляющей современных земных и космических технологий. Однако постоянно возрастающие и изменяющиеся требования плазменных технологий требуют усовершенствования старых моделей устройств и создания их новых перспективных моделей. Большое значение при разработке индуктивных источников плазмы имеет обеспечение условий, при которых плазма эффективно поглощает ВЧ-мощность. В последние годы стало очевидным, что в индуктивном ВЧ-разряде низкого давления мощность ВЧ-генератора распределяется между активным сопротивлением внешней цепи и плазмой, причем в плазму мощность поступает по двум каналам: индуктивному, существующему благодаря току, текущему по индуктору или антенне, и емкостному, обусловленному наличием емкостной связи между антенной и плазмой. Рассмотрены особенности поведения индуктивного ВЧ-разряда, связанные с перераспределением ВЧ-мощности между каналами, проанализированы механизмы поглощения ВЧ-мощности. Обсуждаются возможности оптимизации источников плазмы, работающих на индуктивном ВЧ-разряде.

Текст pdf (841 Кб)
English fulltext is available at DOI: 10.1070/PU2008v051n05ABEH006422
PACS: 52.40.Fd, 52.50.−b, 52.80.Pi (все)
DOI: 10.3367/UFNr.0178.200805f.0519
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2008/5/f/
000259376200006
2-s2.0-51549088632
2008PhyU...51..493K
Цитата: Кралькина Е А "Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе" УФН 178 519–540 (2008)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

English citation: Kral’kina E A “Low-pressure radio-frequency inductive discharge and possibilities of optimizing inductive plasma sources” Phys. Usp. 51 493–512 (2008); DOI: 10.1070/PU2008v051n05ABEH006422

Список литературы (55) Статьи, ссылающиеся на эту (53) ↓ Похожие статьи (2)

  1. Nikonov A M, Vavilin K V et al Fizika plazmy 50 61 (2024)
  2. Nikonov A M, Vavilin K V et al Plasma Phys. Rep. 50 77 (2024)
  3. Novikov L A, Gasilov M A et al Plasma Phys. Rep. 50 974 (2024)
  4. Yu Zh, Chen Zh et al Fusion Engineering and Design 199 114104 (2024)
  5. ZADIRIEV Ilya, KRALKINA Elena et al Plasma Sci. Technol. 25 025405 (2023)
  6. Wang N, Liu Zh et al Phys. Scr. 98 115606 (2023)
  7. Golubeva A V, Bobyr N P et al Fusion Science and Technology 79 488 (2023)
  8. Kralkina E A, Nekludova P A et al Vacuum 198 110873 (2022)
  9. Zadiriev I I, Vavilin K V et al Plasma Phys. Rep. 48 961 (2022)
  10. Nikonov A M, Vavilin K V et al Plasma Phys. Rep. 48 1189 (2022)
  11. Razhev A M, Churkin D S, Tkachenko R A Laser Phys. Lett. 18 095001 (2021)
  12. Zielke D, Rauner D et al Plasma Sources Sci. Technol. 30 065011 (2021)
  13. Petrov A K, Kralkina E A et al Vacuum 181 109634 (2020)
  14. Kartashov I N, Kuzelev M V J. Exp. Theor. Phys. 131 645 (2020)
  15. KRALKINA Elena, NEKLIUDOVA Polina et al Plasma Sci. Technol. 22 055405 (2020)
  16. KRALKINA Elena, VAVILIN Konstantin et al Plasma Sci. Technol. 22 115404 (2020)
  17. Vorona N A, Gavrikov A V et al IEEE Trans. Plasma Sci. 47 1223 (2019)
  18. Rauner D, Briefi S, Fantz U Plasma Sources Sci. Technol. 28 095011 (2019)
  19. Kralkina E A, Vavilin K V et al Vacuum 167 136 (2019)
  20. Kralkina E, Alexandrov A et al Micromachining Chapter 5 (2019)
  21. Petrov A K, Kralkina E A et al Vacuum 169 108927 (2019)
  22. Li H, Gao F et al 125 (17) (2019)
  23. Val’shin A M, Pershin C M, Mikheev G M Bull. Lebedev Phys. Inst. 46 191 (2019)
  24. Nekliudova P A, Kralkina E A et al Plasma Phys. Rep. 44 878 (2018)
  25. Aleksandrov A F, Vavilin K V et al J. Commun. Technol. Electron. 63 374 (2018)
  26. Shafir G, Zolotukhin D et al Plasma Sources Sci. Technol. 26 025005 (2017)
  27. Kralkina E A, Nekliudova P A et al Plasma Sources Sci. Technol. 26 055006 (2017)
  28. Kuzenov V V, Ryzhkov S V, Frolko P A J. Phys.: Conf. Ser. 830 012049 (2017)
  29. Rauner D, Mattei S et al (AIP Conference Proceedings) Vol. 1869 (2017) p. 030035
  30. Stratakos Y, Zeniou A, Gogolides E Plasma Processes & Polymers 14 (4-5) (2017)
  31. Gavrikov A, Kuzmichev S et al EPJ Web Conf. 157 03062 (2017)
  32. Rauner D, Briefi S, Fantz U Plasma Sources Sci. Technol. 26 095004 (2017)
  33. Shishkin G G, Shishkin A G et al J. Commun. Technol. Electron. 62 588 (2017)
  34. Valshin A M, Pershin S M, Mikheev G M Bull. Lebedev Phys. Inst. 44 228 (2017)
  35. Es’kin V A, Kudrin A V 2017 Progress In Electromagnetics Research Symposium - Spring (PIERS), (2017) p. 1372
  36. Aleksandrov A F, Petrov A K et al Plasma Phys. Rep. 42 290 (2016)
  37. Aleksandrov A F, Petrov A K et al Russ Microelectron 45 433 (2016)
  38. Kralkina E A, Rukhadze A A et al Plasma Sources Sci. Technol. 25 015016 (2016)
  39. Meshcheryakova E A, Kaziev A V et al Bull. Russ. Acad. Sci. Phys. 80 175 (2016)
  40. Frolko P A (AIP Conference Proceedings) Vol. 1771 (2016) p. 070013
  41. Meshcheryakova E, Zibrov M et al Physics Procedia 71 121 (2015)
  42. Es’kin V A, Ivoninsky A V, Kudrin A V PIER B 63 173 (2015)
  43. Petrov A K, Vavilin K V et al Moscow Univ. Phys. 70 527 (2015)
  44. Kralkina E A, Nekliudova P A et al Moscow Univ. Phys. 69 92 (2014)
  45. Godyak V J. Phys. D: Appl. Phys. 46 283001 (2013)
  46. Vavilin K V, Gomorev M A et al Moscow Univ. Phys. 67 92 (2012)
  47. Gushchin M E, Zaboronkova T M et al 19 (9) (2012)
  48. Koldanov V A, Korobkov S V et al Plasma Phys. Rep. 37 680 (2011)
  49. Aleksandrov A F, Kuzelev M V, Rukhadze A A J. Commun. Technol. Electron. 55 773 (2010)
  50. Alexandrov A F, Vavilin K V et al Moscow Univ. Phys. 65 43 (2010)
  51. Kuzelev M V Bull. Lebedev Phys. Inst. 37 31 (2010)
  52. Alexandrov A F, Vavilin K V et al Moscow Univ. Phys. 65 311 (2010)
  53. Denisova N IEEE Trans. Plasma Sci. 37 502 (2009)
© Успехи физических наук, 1918–2024
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение