RSS-ленты
РусскийEnglish
Выпуск 7, 2026
Том год страница
Выпуски Авторы PACS Подписчикам Для авторов

Выпуски

 / 

2008

 / 

Май

←  →

Из текущей литературы


Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе


Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, Физический факультет, Ленинские горы 1 стр. 2, Москва, 119991, Российская Федерация

Плазменные реакторы и источники ионов, принцип действия которых основан на индуктивном высокочастотном (ВЧ) разряде низкого давления, уже в течение нескольких десятилетий являются важнейшей составляющей современных земных и космических технологий. Однако постоянно возрастающие и изменяющиеся требования плазменных технологий требуют усовершенствования старых моделей устройств и создания их новых перспективных моделей. Большое значение при разработке индуктивных источников плазмы имеет обеспечение условий, при которых плазма эффективно поглощает ВЧ-мощность. В последние годы стало очевидным, что в индуктивном ВЧ-разряде низкого давления мощность ВЧ-генератора распределяется между активным сопротивлением внешней цепи и плазмой, причем в плазму мощность поступает по двум каналам: индуктивному, существующему благодаря току, текущему по индуктору или антенне, и емкостному, обусловленному наличием емкостной связи между антенной и плазмой. Рассмотрены особенности поведения индуктивного ВЧ-разряда, связанные с перераспределением ВЧ-мощности между каналами, проанализированы механизмы поглощения ВЧ-мощности. Обсуждаются возможности оптимизации источников плазмы, работающих на индуктивном ВЧ-разряде.

Текст pdf (841 Кб)
English fulltext is available at DOI: 10.1070/PU2008v051n05ABEH006422
PACS: 52.40.Fd, 52.50.−b, 52.80.Pi (все)
DOI: 10.3367/UFNr.0178.200805f.0519
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2008/5/f/
000259376200006
2-s2.0-51549088632
2008PhyU...51..493K
Цитата: Кралькина Е А "Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе" УФН 178 519–540 (2008)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

English citation: Kral’kina E A “Low-pressure radio-frequency inductive discharge and possibilities of optimizing inductive plasma sources” Phys. Usp. 51 493–512 (2008); DOI: 10.1070/PU2008v051n05ABEH006422

Список литературы (55) Статьи, ссылающиеся на эту (60) ↓ Похожие статьи (2)

  1. Kuzenov V V, Ryzhkov S V J. Exp. Theor. Phys. 142 (2) 178 (2026)
  2. Zheng P, Wu J et al Advances in Space Research (2026)
  3. Dudin V S, Kralkina E A et al Vacuum 252 115411 (2026)
  4. ZHANG Man, TAO Jianhe et al Acta Phys. Sin. 75 (15) 0 (2026)
  5. Stepanov N O, Cherkez D I, Spitsyn A V Plasma Phys. Rep. 51 (4) 474 (2025)
  6. Chen G, Kralkina E A et al Plasma Phys. Rep. 51 (3) 357 (2025)
  7. Jiang Y-L, He Y et al Plasma Sources Sci. Technol. 34 (3) 035010 (2025)
  8. Razhev A M, Churkin D S et al Bull. Lebedev Phys. Inst. 51 (S10) S870 (2024)
  9. Yu Zh, Chen Zh et al Fusion Engineering and Design 199 114104 (2024)
  10. Nikonov A M, Vavilin K V et al Fizika plazmy 50 (1) 61 (2024) [Nikonov A M, Vavilin K V et al Plasma Phys. Rep. 50 (1) 77 (2024)]
  11. Novikov L A, Gasilov M A et al Plasma Phys. Rep. 50 (8) 974 (2024)
  12. ZADIRIEV Ilya, KRALKINA Elena et al Plasma Sci. Technol. 25 (2) 025405 (2023)
  13. Golubeva A V, Bobyr N P et al Fusion Science and Technology 79 (4) 488 (2023)
  14. Wang N, Liu Zh et al Phys. Scr. 98 (11) 115606 (2023)
  15. Kralkina E A, Nekludova P A et al Vacuum 198 110873 (2022)
  16. Nikonov A M, Vavilin K V et al Plasma Phys. Rep. 48 (11) 1189 (2022)
  17. Zadiriev I I, Vavilin K V et al Plasma Phys. Rep. 48 (9) 961 (2022)
  18. Zielke D, Rauner D et al Plasma Sources Sci. Technol. 30 (6) 065011 (2021)
  19. Razhev A M, Churkin D S, Tkachenko R A Laser Phys. Lett. 18 (9) 095001 (2021)
  20. Kartashov I N, Kuzelev M V J. Exp. Theor. Phys. 131 (4) 645 (2020)
  21. KRALKINA Elena, VAVILIN Konstantin et al Plasma Sci. Technol. 22 (11) 115404 (2020)
  22. Petrov A K, Kralkina E A et al Vacuum 181 109634 (2020)
  23. KRALKINA Elena, NEKLIUDOVA Polina et al Plasma Sci. Technol. 22 (5) 055405 (2020)
  24. Petrov A K, Kralkina E A et al Vacuum 169 108927 (2019)
  25. Kralkina E A, Vavilin K V et al Vacuum 167 136 (2019)
  26. Kralkina E, Alexandrov A et al Micromachining Chapter 5 (2019)
  27. Li H, Gao F et al Journal of Applied Physics 125 (17) (2019)
  28. Rauner D, Briefi S, Fantz U Plasma Sources Sci. Technol. 28 (9) 095011 (2019)
  29. Vorona N A, Gavrikov A V et al IEEE Trans. Plasma Sci. 47 (2) 1223 (2019)
  30. Val’shin A M, Pershin C M, Mikheev G M Bull. Lebedev Phys. Inst. 46 (6) 191 (2019)
  31. Nekliudova P A, Kralkina E A et al Plasma Phys. Rep. 44 (9) 878 (2018)
  32. Aleksandrov A F, Vavilin K V et al J. Commun. Technol. Electron. 63 (4) 374 (2018)
  33. Kralkina E A, Nekliudova P A et al Plasma Sources Sci. Technol. 26 (5) 055006 (2017)
  34. Rauner D, Mattei S et al (AIP Conference Proceedings) Vol. 1869 (2017) p. 030035
  35. Stratakos Y, Zeniou A, Gogolides E Plasma Processes & Polymers 14 (4-5) (2017)
  36. Gavrikov A, Kuzmichev S et al EPJ Web Conf. 157 03062 (2017)
  37. Rauner D, Briefi S, Fantz U Plasma Sources Sci. Technol. 26 (9) 095004 (2017)
  38. Valshin A M, Pershin S M, Mikheev G M Bull. Lebedev Phys. Inst. 44 (8) 228 (2017)
  39. Es’kin V A, Kudrin A V 2017 Progress In Electromagnetics Research Symposium - Spring (PIERS), (2017) p. 1372
  40. Shishkin G G, Shishkin A G et al J. Commun. Technol. Electron. 62 (6) 588 (2017)
  41. Shafir G, Zolotukhin D et al Plasma Sources Sci. Technol. 26 (2) 025005 (2017)
  42. Kuzenov V V, Ryzhkov S V, Frolko P A J. Phys.: Conf. Ser. 830 012049 (2017)
  43. Meshcheryakova E A, Kaziev A V et al Bull. Russ. Acad. Sci. Phys. 80 (2) 175 (2016)
  44. Aleksandrov A F, Petrov A K et al Russ Microelectron 45 (6) 433 (2016)
  45. Aleksandrov A F, Petrov A K et al Plasma Phys. Rep. 42 (3) 290 (2016)
  46. Frolko P A (AIP Conference Proceedings) Vol. 1771 (2016) p. 070013
  47. Kralkina E A, Rukhadze A A et al Plasma Sources Sci. Technol. 25 (1) 015016 (2016)
  48. Es’kin V A, Ivoninsky A V, Kudrin A V PIER B 63 173 (2015)
  49. Petrov A K, Vavilin K V et al Moscow Univ. Phys. 70 (6) 527 (2015)
  50. Meshcheryakova E, Zibrov M et al Physics Procedia 71 121 (2015)
  51. Kralkina E A, Nekliudova P A et al Moscow Univ. Phys. 69 (1) 92 (2014)
  52. Godyak V J. Phys. D: Appl. Phys. 46 (28) 283001 (2013)
  53. Vavilin K V, Gomorev M A et al Moscow Univ. Phys. 67 (1) 92 (2012)
  54. Gushchin M E, Zaboronkova T M et al Physics of Plasmas 19 (9) (2012)
  55. Koldanov V A, Korobkov S V et al Plasma Phys. Rep. 37 (8) 680 (2011)
  56. Aleksandrov A F, Kuzelev M V, Rukhadze A A J. Commun. Technol. Electron. 55 (7) 773 (2010)
  57. Alexandrov A F, Vavilin K V et al Moscow Univ. Phys. 65 (1) 43 (2010)
  58. Kuzelev M V Bull. Lebedev Phys. Inst. 37 (2) 31 (2010)
  59. Alexandrov A F, Vavilin K V et al Moscow Univ. Phys. 65 (4) 311 (2010)
  60. Denisova N IEEE Trans. Plasma Sci. 37 (4) 502 (2009)
© Успехи физических наук, 1918–2026
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение