RSS-ленты
РусскийEnglish
Выпуск 6, 2026
Том год страница
Выпуски Авторы PACS Подписчикам Для авторов

Выпуски

 / 

2008

 / 

Май

←  →

Из текущей литературы


Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе


Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, Физический факультет, Ленинские горы 1 стр. 2, Москва, 119991, Российская Федерация

Плазменные реакторы и источники ионов, принцип действия которых основан на индуктивном высокочастотном (ВЧ) разряде низкого давления, уже в течение нескольких десятилетий являются важнейшей составляющей современных земных и космических технологий. Однако постоянно возрастающие и изменяющиеся требования плазменных технологий требуют усовершенствования старых моделей устройств и создания их новых перспективных моделей. Большое значение при разработке индуктивных источников плазмы имеет обеспечение условий, при которых плазма эффективно поглощает ВЧ-мощность. В последние годы стало очевидным, что в индуктивном ВЧ-разряде низкого давления мощность ВЧ-генератора распределяется между активным сопротивлением внешней цепи и плазмой, причем в плазму мощность поступает по двум каналам: индуктивному, существующему благодаря току, текущему по индуктору или антенне, и емкостному, обусловленному наличием емкостной связи между антенной и плазмой. Рассмотрены особенности поведения индуктивного ВЧ-разряда, связанные с перераспределением ВЧ-мощности между каналами, проанализированы механизмы поглощения ВЧ-мощности. Обсуждаются возможности оптимизации источников плазмы, работающих на индуктивном ВЧ-разряде.

Текст pdf (841 Кб)
English fulltext is available at DOI: 10.1070/PU2008v051n05ABEH006422
PACS: 52.40.Fd, 52.50.−b, 52.80.Pi (все)
DOI: 10.3367/UFNr.0178.200805f.0519
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2008/5/f/
000259376200006
2-s2.0-51549088632
2008PhyU...51..493K
Цитата: Кралькина Е А "Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе" УФН 178 519–540 (2008)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

English citation: Kral’kina E A “Low-pressure radio-frequency inductive discharge and possibilities of optimizing inductive plasma sources” Phys. Usp. 51 493–512 (2008); DOI: 10.1070/PU2008v051n05ABEH006422

Список литературы (55) Статьи, ссылающиеся на эту (58) ↓ Похожие статьи (2)

  1. Dudin V S, Kralkina E A et al Vacuum 252 115411 (2026)
  2. Kuzenov V V, Ryzhkov S V J. Exp. Theor. Phys. 142 (2) 178 (2026)
  3. Stepanov N O, Cherkez D I, Spitsyn A V Plasma Phys. Rep. 51 (4) 474 (2025)
  4. Jiang Y-L, He Y et al Plasma Sources Sci. Technol. 34 (3) 035010 (2025)
  5. Chen G, Kralkina E A et al Plasma Phys. Rep. 51 (3) 357 (2025)
  6. Razhev A M, Churkin D S et al Bull. Lebedev Phys. Inst. 51 (S10) S870 (2024)
  7. Yu Zh, Chen Zh et al Fusion Engineering and Design 199 114104 (2024)
  8. Nikonov A M, Vavilin K V et al Fizika plazmy 50 (1) 61 (2024) [Nikonov A M, Vavilin K V et al Plasma Phys. Rep. 50 (1) 77 (2024)]
  9. Novikov L A, Gasilov M A et al Plasma Phys. Rep. 50 (8) 974 (2024)
  10. ZADIRIEV Ilya, KRALKINA Elena et al Plasma Sci. Technol. 25 (2) 025405 (2023)
  11. Golubeva A V, Bobyr N P et al Fusion Science and Technology 79 (4) 488 (2023)
  12. Wang N, Liu Zh et al Phys. Scr. 98 (11) 115606 (2023)
  13. Kralkina E A, Nekludova P A et al Vacuum 198 110873 (2022)
  14. Nikonov A M, Vavilin K V et al Plasma Phys. Rep. 48 (11) 1189 (2022)
  15. Zadiriev I I, Vavilin K V et al Plasma Phys. Rep. 48 (9) 961 (2022)
  16. Razhev A M, Churkin D S, Tkachenko R A Laser Phys. Lett. 18 (9) 095001 (2021)
  17. Zielke D, Rauner D et al Plasma Sources Sci. Technol. 30 (6) 065011 (2021)
  18. Kartashov I N, Kuzelev M V J. Exp. Theor. Phys. 131 (4) 645 (2020)
  19. KRALKINA Elena, VAVILIN Konstantin et al Plasma Sci. Technol. 22 (11) 115404 (2020)
  20. KRALKINA Elena, NEKLIUDOVA Polina et al Plasma Sci. Technol. 22 (5) 055405 (2020)
  21. Petrov A K, Kralkina E A et al Vacuum 181 109634 (2020)
  22. Petrov A K, Kralkina E A et al Vacuum 169 108927 (2019)
  23. Kralkina E, Alexandrov A et al Micromachining Chapter 5 (2019)
  24. Li H, Gao F et al Journal of Applied Physics 125 (17) (2019)
  25. Kralkina E A, Vavilin K V et al Vacuum 167 136 (2019)
  26. Rauner D, Briefi S, Fantz U Plasma Sources Sci. Technol. 28 (9) 095011 (2019)
  27. Vorona N A, Gavrikov A V et al IEEE Trans. Plasma Sci. 47 (2) 1223 (2019)
  28. Val’shin A M, Pershin C M, Mikheev G M Bull. Lebedev Phys. Inst. 46 (6) 191 (2019)
  29. Nekliudova P A, Kralkina E A et al Plasma Phys. Rep. 44 (9) 878 (2018)
  30. Aleksandrov A F, Vavilin K V et al J. Commun. Technol. Electron. 63 (4) 374 (2018)
  31. Rauner D, Mattei S et al (AIP Conference Proceedings) Vol. 1869 (2017) p. 030035
  32. Stratakos Y, Zeniou A, Gogolides E Plasma Processes & Polymers 14 (4-5) (2017)
  33. Gavrikov A, Kuzmichev S et al EPJ Web Conf. 157 03062 (2017)
  34. Rauner D, Briefi S, Fantz U Plasma Sources Sci. Technol. 26 (9) 095004 (2017)
  35. Valshin A M, Pershin S M, Mikheev G M Bull. Lebedev Phys. Inst. 44 (8) 228 (2017)
  36. Es’kin V A, Kudrin A V 2017 Progress In Electromagnetics Research Symposium - Spring (PIERS), (2017) p. 1372
  37. Kralkina E A, Nekliudova P A et al Plasma Sources Sci. Technol. 26 (5) 055006 (2017)
  38. Shishkin G G, Shishkin A G et al J. Commun. Technol. Electron. 62 (6) 588 (2017)
  39. Shafir G, Zolotukhin D et al Plasma Sources Sci. Technol. 26 (2) 025005 (2017)
  40. Kuzenov V V, Ryzhkov S V, Frolko P A J. Phys.: Conf. Ser. 830 012049 (2017)
  41. Meshcheryakova E A, Kaziev A V et al Bull. Russ. Acad. Sci. Phys. 80 (2) 175 (2016)
  42. Aleksandrov A F, Petrov A K et al Russ Microelectron 45 (6) 433 (2016)
  43. Aleksandrov A F, Petrov A K et al Plasma Phys. Rep. 42 (3) 290 (2016)
  44. Frolko P A (AIP Conference Proceedings) Vol. 1771 (2016) p. 070013
  45. Kralkina E A, Rukhadze A A et al Plasma Sources Sci. Technol. 25 (1) 015016 (2016)
  46. Petrov A K, Vavilin K V et al Moscow Univ. Phys. 70 (6) 527 (2015)
  47. Meshcheryakova E, Zibrov M et al Physics Procedia 71 121 (2015)
  48. Es’kin V A, Ivoninsky A V, Kudrin A V PIER B 63 173 (2015)
  49. Kralkina E A, Nekliudova P A et al Moscow Univ. Phys. 69 (1) 92 (2014)
  50. Godyak V J. Phys. D: Appl. Phys. 46 (28) 283001 (2013)
  51. Vavilin K V, Gomorev M A et al Moscow Univ. Phys. 67 (1) 92 (2012)
  52. Gushchin M E, Zaboronkova T M et al Physics of Plasmas 19 (9) (2012)
  53. Koldanov V A, Korobkov S V et al Plasma Phys. Rep. 37 (8) 680 (2011)
  54. Aleksandrov A F, Kuzelev M V, Rukhadze A A J. Commun. Technol. Electron. 55 (7) 773 (2010)
  55. Alexandrov A F, Vavilin K V et al Moscow Univ. Phys. 65 (1) 43 (2010)
  56. Kuzelev M V Bull. Lebedev Phys. Inst. 37 (2) 31 (2010)
  57. Alexandrov A F, Vavilin K V et al Moscow Univ. Phys. 65 (4) 311 (2010)
  58. Denisova N IEEE Trans. Plasma Sci. 37 (4) 502 (2009)
© Успехи физических наук, 1918–2026
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение