Плазменные реакторы и источники ионов, принцип действия которых основан на индуктивном высокочастотном (ВЧ) разряде низкого давления, уже в течение нескольких десятилетий являются важнейшей составляющей современных земных и космических технологий. Однако постоянно возрастающие и изменяющиеся требования плазменных технологий требуют усовершенствования старых моделей устройств и создания их новых перспективных моделей. Большое значение при разработке индуктивных источников плазмы имеет обеспечение условий, при которых плазма эффективно поглощает ВЧ-мощность. В последние годы стало очевидным, что в индуктивном ВЧ-разряде низкого давления мощность ВЧ-генератора распределяется между активным сопротивлением внешней цепи и плазмой, причем в плазму мощность поступает по двум каналам: индуктивному, существующему благодаря току, текущему по индуктору или антенне, и емкостному, обусловленному наличием емкостной связи между антенной и плазмой. Рассмотрены особенности поведения индуктивного ВЧ-разряда, связанные с перераспределением ВЧ-мощности между каналами, проанализированы механизмы поглощения ВЧ-мощности. Обсуждаются возможности оптимизации источников плазмы, работающих на индуктивном ВЧ-разряде.

PACS: 52.40.Fd, 52.50.−b, 52.80.Pi (все) DOI: 10.3367/UFNr.0178.200805f.0519 URL: https://ufn.ru/ru/articles/2008/5/f/ 000259376200006 2-s2.0-51549088632 2008PhyU...51..493K Цитата: Кралькина Е А "Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе" УФН 178 519–540 (2008) BibTexBibNote ® (generic) BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks Русский English TY JOUR TI Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе AU Кралькина, Е. А. PB Успехи физических наук PY 2008 JO Успехи физических наук JF Успехи физических наук JA Усп. физ. наук VL 178 IS 5 SP 519-540 UR https://ufn.ru/ru/articles/2008/5/f/ ER https://doi.org/10.3367/UFNr.0178.200805f.0519 English citation: Kral’kina E A “Low-pressure radio-frequency inductive discharge and possibilities of optimizing inductive plasma sources” Phys. Usp. 51 493–512 (2008); DOI: 10.1070/PU2008v051n05ABEH006422