42.82.Cr Fabrication techniques; lithography, pattern transfer
-
Д.Б. Абраменко, П.С. Анциферов и др. «Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)» УФН 189 323–334 (2019)
42.82.Cr, 52.25.Os, 52.59.−f, 52.70.−m, 52.77.−j (все)
-
К.Б. Фрицлер, В.Я. Принц «Методы трёхмерной печати микро- и наноструктур» УФН 189 55–71 (2019)
32.80.Rm, 42.82.Cr, 61.46.−w, 68.65.−k, 81.20.−n (все)
-
А.Н. Рябцев, С.С. Чурилов «Спектроскопия ионизованных атомов для астрофизики и нанотехнологии» УФН 179 305–309 (2009)
32.30.−r, 32.30.Jc, 42.82.Cr, 95.30.Ky, 97.10.−q (все)
-
К.Н. Кошелев, В.Е. Банин, Н.Н. Салащенко «Работы по созданию источников коротковолнового излучения для нового поколения литографии» УФН 177 777 (2007)
42.72.−g, 42.82.Cr (все)
-
Г.Н. Шкердин «Проблемы интегральной оптики» УФН 152 353–355 (1987)
01.30.Vv, 42.82.Et, 42.82.Cr, 42.82.Gw (все)
|