Выпуски

 / 

2019

 / 

Март

  

Конференции и симпозиумы


Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)

 а,  а,  а,  б,  в,  а,  в,  а,  а,  в,  а,  г,  а,  а,  г,  б,  а,  а,  а,  а,  в,  д, е,  в,  е,  б
а Институт спектроскопии РАН, ул. Физическая 5, Троицк, Москва, 108840, Российская Федерация
б ООО "ЭУФ Лабс", Сиреневый бульв. 1, Троицк, Москва, 142191, Российская Федерация
в Институт прикладной математики им. М.В. Келдыша РАН, Миусская пл. 4, Москва, 125047, Российская Федерация
г Московский физико-технический институт (Государственный университет), Институтский пер. 9, Долгопрудный, Московская обл., 141700, Российская Федерация
д Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук, ул. Вавилова 38, Москва, 119942, Российская Федерация
е Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН, Ленинский проспект 53, Москва, 119991, Российская Федерация

Описаны результаты исследований, посвящённых разработке плазменных источников экстремального ультрафиолетового излучения для литографии нового поколения и разработке методов спектральной диагностики таких источников.

Текст: pdf
Войдите или зарегистрируйтесь чтобы получить доступ к полным текстам статей.
Ключевые слова: ЭУФ-литография, лазерная плазма, источники излучения
PACS: 42.82.Cr, 52.25.Os, 52.59.−f, 52.70.−m, 52.77.−j (все)
DOI: 10.3367/UFNr.2018.06.038447
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/3/k/
Цитата: Абраменко Д Б, Анциферов П С, Астахов Д И, Виноходов А Ю, Вичев И Ю, Гаязов Р Р, Грушин А С, Дорохин Л А, Иванов В В, Ким Д А, Кошелев К Н, Крайнов П В, Кривокорытов М С, Кривцун В М, Лакатош Б В, Лаш А А, Медведев В В, Рябцев А Н, Сидельников Ю В, Снегирёв Е П, Соломянная А Д, Спиридонов М В, Цыгвинцев И П, Якушев О Ф, Якушкин А А "Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)" УФН 189 323–334 (2019)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

Поступила: 28 августа 2018, 20 июня 2018

English citation: Abramenko D B, Antsiferov P S, Astakhov D I, Vinokhodov A Yu, Vichev I Yu, Gayazov R R, Grushin A S, Dorokhin L A, Ivanov V V, Kim D A, Koshelev K N, Krainov P V, Krivokorytov M S, Krivtsun V M, Lakatosh B V, Lash A A, Medvedev V V, Ryabtsev A N, Sidel’nikov Yu V, Snegirev E P, Solomyannaya A D, Spiridonov M V, Tsygvintsev I P, Yakushev O F, Yakushkin A A “Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspectionPhys. Usp. 62 304–314 (2019); DOI: 10.3367/UFNe.2018.06.038447

© Успехи физических наук, 1918–2019
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение