RSS-ленты
РусскийEnglish
Выпуск 4, 2024
Том год страница
Выпуски Авторы PACS Подписчикам Для авторов

Выпуски

 / 

2020

 / 

Декабрь

←  →

Приборы и методы исследований


Электрогидродинамические источники ионных пучков

†  а, ‡  б, в, §  г, д, е
а Raith GmbH, Konrad-Adenauer-Allee 8, Dortmund, 44263, Germany
б Новосибирский национальный исследовательский государственный университет, Академгородок, ул. Пирогова 2, Новосибирск, 630090, Российская Федерация
в Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН, просп. акад. Лаврентьева 11, Новосибирск, 630090, Российская Федерация
г Рязанский государственный радиотехнический университет имени В.Ф. Уткина, ул. Гагарина 59/1, Рязань, 390005, Российская Федерация
д Wuhan University, Wuhan, Hubei Province, China
е Universidade Nova de Lisboa, Campus de Campolide, Lisboa, 1099-085, Portugal

Рассматриваются физические процессы, определяющие генерацию ионных пучков с высокой эмиссионной плотностью тока в электрогидродинамических (ЭГД) источниках, работающих на жидких металлах и сплавах, а также с низкотемпературными ионными жидкостями. Обсуждаются ЭГД-эффекты, оказывающие влияние на эмиссию ионов (механизмы ионообразования), и кинетика взаимодействия ионов в пучках с высокой плотностью. Анализируются факторы, определяющие размер эмиссионной зоны, устойчивость эмиссии при больших и малых токах, генерацию кластеров, увеличение энергетического разброса, уменьшение яркости и другие характеристики ионных пучков. Рассмотрены конструкционные особенности ЭГД-эмиттеров, проблемы практического обеспечения их устойчивого функционирования. Подробно представлены современные области применения источников ионов с ЭГД-эмиттерами, включая технологические установки для ионно-лучевой литографии, микро- и наноструктурирования, ионные микроскопы и приборы для локальной масс-спектрометрии вторичных ионов, а также системы контроля и нейтрализации потенциала космических аппаратов и электростатические ракетные двигатели (микротрастеры). Проанализированы перспективы дальнейшего развития ЭГД-эмиттеров и приборов на их основе.

Текст pdf (2,2 Мб)
English fulltext is available at DOI: 10.3367/UFNe.2020.09.038845
Ключевые слова: электрогидродинамический, ионный источник, жидкометаллический, низкотемпературные ионные жидкости, наноструктурирование, масс-спектрометрия вторичных ионов, ионно-лучевая литография, жидкие металлы и сплавы, нанотехнологии
PACS: 29.25.Ni, 41.75.−i, 81.16.Nd (все)
DOI: 10.3367/UFNr.2020.09.038845
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2020/12/c/
000621721400003
2-s2.0-85102730097
2020PhyU...63.1219M
Цитата: Мажаров П А, Дудников В Г, Толстогузов А Б "Электрогидродинамические источники ионных пучков" УФН 190 1293–1333 (2020)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

Поступила: 14 декабря 2019, доработана: 13 июля 2020, 29 сентября 2020

English citation: Mazarov P, Dudnikov V G, Tolstoguzov A B “Electrohydrodynamic emitters of ion beams” Phys. Usp. 63 1219–1255 (2020); DOI: 10.3367/UFNe.2020.09.038845

Список литературы (372) ↓ Статьи, ссылающиеся на эту (13) Похожие статьи (11)

  1. Bruchhaus L et al Appl. Phys. Rev. 4 011302 (2017)
  2. Bischoff L et al Appl. Phys. Rev. 3 021101 (2016)
  3. Gierak J et al J. Vac. Sci. Technol. B 101 (2018)
  4. Bassim N, Notte J "Focused ion beam instruments" Materials Characterization (ASM Handboo) Vol. 10 (Materials Park, OH: ASM Intern., 2019) p. 635
  5. Machalett F, Seidel P digital "Focused ion beams and some selected applications" Encyclopedia of Applied Physics (New York: Wiley-VCH Verlag, 2019)
  6. Жакин А И УФН 183 153 (2013); Zhakin A I Phys. Usp. 56 141 (2013)
  7. Utke I, Moshkalev S, Russell P (Eds) Nanofabrication Using Focused Ion and Electron Beams: Principles and Applications (Oxford: Oxford Univ. Press, 2012)
  8. Giannuzzi L A, Stevie F A (Eds) Introduction to Focused Ion Beams. Instrumentation, Theory, Techniques and Practice (New York: Springer-Verlag, 2005)
  9. Bassim N, Scott K, Giannuzzi L A MRS Bull. 39 317 (2014)
  10. Габович М Д УФН 140 137 (1983); Gabovich M D Sov. Phys. Usp. 26 447 (1983)
  11. Ruedenauer F G Secondary Ion Mass Spectrometry SIMS IV. Proc. of the Fourth Intern. Conf., Osaka, Japan, November 13 - 19, 1983 (Springer Series in Chemical Physics) Vol. 36 (Eds A Benninghoven et al.) (Berlin: Springer-Verlag, 1984) p. 133
  12. Benninghoven A, Rüdenauer F G, Werner H W Secondary Ion Mass Spectrometry. Basic Concepts, Instrumental Aspects, Applications, and Trends (New York: J. Wiley, 1987)
  13. Wilson R G, Stevie F A, Magee C W Secondary Ion Mass Spectrometry: a Practical Handbook for Profiling and Bulk Impurity Analysis (New York: Wiley, 1989)
  14. Черепин В T Ионный микрозондовый анализ (Киев: Наукова думка, 1992)
  15. Oechsner H Int. J. Mass Spectrom. Ion Proces. 143 271 (1995)
  16. Berthold W, Wucher A Surf. Interface Anal. 23 393 (1995)
  17. Wucher A "Laser post-ionization - fundamentals" ToF-SIMS: Materials Analysis by Mass Spectrometry (IM Publ. and Surface Spectra, Eds J C Vickerman, D Briggs) 2nd ed. (2013)
  18. Батурин В А, Еремин С А Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования (7) 87 (2008)
  19. Rüdenauer F G Surf. Interface Anal. 39 116 (2007)
  20. Tajmar M et al Ultramicroscopy 109 442 (2009)
  21. Müller E W Science 149 591 (1965)
  22. Hlawacek G, Göltzhäuser A (Eds) Helium Ion Microscopy (Cham: Springer Intern. Publ., 2016)
  23. Lozano P, Martínez-Sánchez M J. Colloid Interface Sci. 282 415 (2005)
  24. Welton T Chem. Rev. 99 2071 (1999)
  25. Толстогузов А Б и др ПТЭ (1) 5 (2015); Tolstogouzov A B et al Instrum. Exp. Tech. 58 1 (2015)
  26. Prewett P D, Mair G L R Focused Ion Beams from Liquid Metal Ion Sources (Taunton: Research Studies Press, 1991)
  27. Forbes R G, Mair G L R Handbook of Charged Particle Optics 29 (2009)
  28. Orloff J, Utlaut M, Swanson L High Resolution Focused Ion Beams : FIB and Its Applications: the Physics of Liquid Metal Ion Sources and Ion Optics and their Application to Focused Ion Beam Technology (New York: Kluwer Acad. Plenum Publ., 2003)
  29. Wolf B (Ed.) Handbook of Ion Sources (Boca Raton, FL: CRC Press, 1995)
  30. Zhang H Ion Sources (New York: Science Press. Springer, 1999)
  31. Brown I G The Physics and Technology of Ion Sources (New York: Wiley, 1989); Пер. на русск. яз., Браун Я (Ред.) Физика и технология источников ионов (М.: Мир, 1998)
  32. Mackenzie R A D, Smith G D W Nanotechnology 1 163 (1990)
  33. Gilbert W De Magnete (Transl. P F Mottelay) (New York: Dover Publ., 1958), Facsimile
  34. Gray S Philos. Trans. R. Soc. Lond. 37 227 (1732); Gray S Philos. Trans. R. Soc. Lond. 37 260 (1732)
  35. Rayleigh Lord Proc. R. Soc. Lond. 29 71 (1879)
  36. Zeleny J Phys. Rev. 3 69 (1914)
  37. Zeleny J Phys. Rev. 10 1 (1917)
  38. Zeleny J J. Franklin Inst. 219 659 (1935)
  39. Müller E W Z. Phys. 131 136 (1951)
  40. Krohn V E Prog. Astronaut. Rocketry 5 73 (1961)
  41. Swatik D S, Hendricks C D Am. Inst. Aeronautics Astronautics J. 6 1596 (1968); Сватик Д С, Хендрикс К Д Ракетная техника и космонавтика 6 (8) 195 (1968)
  42. Mahoney J F et al J. Appl. Phys. 40 5101 (1969)
  43. Gomer R Field Emission and Field Ionization (Harvard Monographs in Applied Science) Vol. 9 (Cambridge, MA: Harvard Univ. Press, 1961) p. 134
  44. Taylor G I Proc. R. Soc. Lond. A 280 383 (1964)
  45. Krohn V E, Ringo G R Appl. Phys. Lett. 27 479 (1975)
  46. Krohn V E, Ringo G R Int. J. Mass. Spectrom. Ion Phys. 22 307 (1976)
  47. Clampitt R, Aitken K L, Jeffries D K J. Vac. Sci. Technol. 12 1208 (1975)
  48. Seliger R L et al Appl. Phys. Lett. 34 310 (1979)
  49. Venkatesan T, Wagner A, Barr D Appl. Phys. Lett 38 943 (1981)
  50. Дудников В Г, Шабалин А Л "Электрогидродинамические эмиттеры ионных пучков" Препринт 90-31 (Новосибирск: Институт ядерной физики СО РАН, 1990); https://inis.iaea.org/collection/NCLCollectionStore/_Public/22/057/22057152.pdf?r=1&r=1
  51. Дудников В Г, Шабалин А Л Прикладная механика и техническая физика (2) 3 (1990)
  52. Belchenko Y I et al Rev. Sci. Instrum. 61 378 (1990)
  53. Dudnikov V G, Shabalin A L Rev. Sci. Instrum. 63 2460 (1992)
  54. Дудников В Г, Шабалин А Л Письма в ЖТФ 11 808 (1985)
  55. Dudnikov V arXiv:2003.07354
  56. Bell A E et al Int. J. Mass Spectrom. Ion Proc. 88 59 (1989)
  57. Panitz J A, Pregenzer A L, Gerber R A J. Vac. Sci. Technol. A 7 64 (1989)
  58. Алякринская Н В и др Письма в ЖТФ 16 (19) 83 (1990)
  59. Dudnikov V G Rev. Sci. Instrum. 67 915 (1996)
  60. Милованов Р А, Ерофеева Е В Нано- и микросистемная техника (11) 20 (2015)
  61. Zorzos A N, Lozano P C J. Vac. Sci. Technol. B 26 2097 (2008)
  62. Smith N S, Notte J A, Steele A V MRS Bull. 39 329 (2014)
  63. Delobbe A, Salord O, Sudraud P, "i-FIB. The ECR-FIB" The European Focused Ion Beam Users Group, EFUG, Annual Meeting, October 3, 2011, Bordeaux, France; http://efug.imec.be/EFUG2011_08_Delobbe.pdf
  64. Smith N et al Microscopy Today 17 (5) 18 (2009)
  65. Malherbe J et al Anal. Chem. 88 7130 (2016)
  66. Viteau M et al Ultramicroscopy 164 70 (2016)
  67. Knuffman B, Steele A V, McClelland J J J. Appl. Phys. 114 044303 (2013)
  68. Xu X et al Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 404 52 (2017)
  69. Xu X et al Microelectron. Eng. 174 20 (2017)
  70. Жуков В А, Калбитцер З Микроэлектроника 40 (1) 21 (2011)
  71. Gierak J, Septier A, Vieu C Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. A 427 91 (1999)
  72. Orloff J (Ed.) Handbook of Charged Particle Optics (Boca Raton, FL: CRC Press, 1997)
  73. Reiser M Theory and Design of Charged Particle Beams 2nd ed. (Weinheim: Wiley-VCH, 2008)
  74. Reiser M "Charakterisierung einer neuartigen Ionenstrahlsäule mit Geschwindigkeitsfilter (ExB) für Legierungsfilamente" Master-Thesis (Bochum: Ruhr-Univ. Bochum, 2013)
  75. Соловьев А В, Толстогузов А Б ЖТФ 57 953 (1987); Solov'ev A V, Tolstoguzov A B Sov. Phys. Tech. Phys. 32 580 (1987)
  76. Klingner N et al Beilstein J. Nanotechnol. 11 1742 (2020)
  77. Guilet S et al Microelectron. Eng. 88 1968 (2011)
  78. Mitterauer J IEEE Trans. Plasma Sci. 15 593 (1987)
  79. Marcuccio S, Giusti N, Tolstoguzov A Proc. of the 31st Intern. Electric Propulsion Conf. IEPC-2009, Sept. 20-24, 2009 (Ann Arbor, MI: Univ. of Michigan, 2009) p. 180
  80. Hren J J, Ranganathan S (Eds) Field-Ion Microscopy (New York: Plenum Press, 1968); Пер. на русск. яз., Рен Дж, Ранганатан С (Ред.) Автоионная микроскопия (М.: Мир, 1971)
  81. Forbes R G Surf. Sci. 61 221 (1976)
  82. Tsong T T Atom-Probe Field Ion Microscopy (Cambridge: Cambridge Univ. Press, 1990)
  83. Swanson L M, Schwind G A, Bell A E J. Appl. Phys. 51 3453 (1980)
  84. Ching M et al J. Vac. Sci. Technol. B 5 1628 (1987)
  85. Schottky W Phys. Z. 15 872 (1914)
  86. Kingham D R, Swanson L W Appl. Phys. A 34 123 (1984)
  87. Kingham D R, Swanson L W Appl. Phys. A 41 157 (1986)
  88. Владимиров В В, Горшков В Н ДАН СССР 297 1107 (1987)
  89. Бадан В Е, Гасанов И С Письма в ЖТФ 15 (18) 49 (1989)
  90. Сихарулидзе Г Г, Бурмий Ж П Высокочистые вещества (2) 171 (1987)
  91. Дудников В Г, Шабалин A Л ЖТФ 55 776 (1985)
  92. Дудников В Г, Шабалин A Л ЖТФ 57 185 (1987)
  93. Kingham D R Surf. Sci. 116 273 (1982)
  94. Ganetsos Th et al Surf. Interface Analysis 39 128 (2007)
  95. Mair G L R J. Phys. D 86 (2000)
  96. Venkatesan T et al Appl. Phys. Lett. 39 9 (1981)
  97. Swanson L W, Bell A E The Physics and Technology of Ion Sources (Ed. I G Brown) (New York: Wiley, 1989) p. 313
  98. Суонсон Л, Белл А Жидкометаллические ионные источники; Физика и технология ионных источников (Под ред. Я Брауна) (М.: Мир, 1998)
  99. Hornsey R I, Marriott P J. Phys. D 22 699 (1989)
  100. Fano U, Fano L Physics of Atoms and Molecules; an Introduction to the Structure of Matter (Chicago, IL: Univ. of Chicago Press, 1972); Пер. на русск. яз., Фано У, Фано Л Физика атомов и молекул (М.: Наука, 1980)
  101. Григорьев А И Письма в ЖТФ 27 (7) 89 (2001); Grigor'ev A I Tech. Phys. Lett. 27 305 (2001)
  102. Ширяева С О, Григорьев А И, Морозов В В ЖТФ 73 (7) 21 (2003); Shiryaeva S O, Grigor'ev A I, Morozov V V Tech. Phys. 48 822 (2003)
  103. Dole M et al J. Chem. Phys. 49 2240 (1968)
  104. Hagena O F, Obert W J. Chem. Phys. 56 1793 (1972)
  105. De la Mora J F, Loscertales I G J. Fluid Mech. 260 155 (1994)
  106. Losano P J. Phys. D 39 126 (2006)
  107. Coffman C S, Martínez-Sánchez M, Lozano P C Phys. Rev. E 99 063108 (2019)
  108. Bischoff L et al Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 161-163 1128 (2000)
  109. Forbes R G Vacuum 48 85 (1997)
  110. Forbes R G, Ljepojevic N N Surf. Sci. 266 170 (1992)
  111. Swanson L W Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. 218 347 (1983)
  112. Gierak J, Jede R, Hawkes P Nanofabrication Handbook (Eds S Cabrini, S Kawata) (Boca Raton, FL: CRC Press, 2012) p. 41
  113. Sudraud P, Colliex C, Van der Walle J J. Physics 40 207 (1979)
  114. Driesel W, Dietzsch C Appl. Surf. Sci. 93 179 (1996)
  115. Driesel W et al J. Vac. Sci. Technol. B 14 1621 (1996)
  116. Driesel W, Dietzsch C, Möser M J. Phys. D 29 2492 (1996)
  117. Hesse E et al Jpn. J. Appl. Phys. 35 5564 (1996)
  118. Бондаренко Г Г, Кабанова Т А, Рыбалко В В Основы материаловедения (Под ред. Г Г Бондаренко) (М.: БИНОМ. Лаборатория знаний, 2018)
  119. Лякишев Н П Диаграммы состояния двойных металлических систем (М.: Машиностроение, 1996), Справочник в 3 т.
  120. Landolt-Boernstein, Madelung O (Ed.) Group IV, Phase Equilibria, Crystallographic and Thermodynamic Data of Binary Alloys (Berlin: Springer, 1995)
  121. Massalski T B (Ed.) Binary Alloy Phase Diagrams (Materials Park, OH: ASM Intern., 1990)
  122. Honig R E, Kramer D A RCA Rev. 30 285 (1969)
  123. Alcock C B, Itkin V P, Horrigan M K Can. Metallurg. Quarterly 23 309 (1984)
  124. Vapor Pressure Calculator, https://www.iap.tuwien.ac.at/www/surface/vapor_pressure
  125. Григорьев И С, Мейлихов Е З (Ред.) Физические величины. Справочник (М.: Энергоатомиздат, 1991); Пер. на англ. яз., Grigoriev I S, Meilikhov E Z (Eds) Handbook of Physical Quantities (Boca Raton, Fl.: CRC Press, 1997)
  126. Белащенко Д К УФН 183 1281 (2013); Belashchenko D K Phys. Usp. 56 1176 (2013)
  127. Bell A E, Swanson L W Appl. Phys. A 41 335 (1986)
  128. Mair G L R et al Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 217 347 (2004)
  129. Mair G L R, Thoms S J. Phys. D 22 975 (1989)
  130. Tegart W J The Electrolytic and Chemical Polishing of Metals (Oxford: Pergamon Press, 1959) p. 140
  131. Mazarov P et al MRS Fall Meeting 2019, Boston, USA
  132. Ishikawa J, Takagi T J. Appl. Phys. 56 3050 (1984)
  133. Vasiljevich I et al The 32nd Intern. Electric Propulsion Conf., Wiesbaden, Germany, 2011
  134. Pilz W et al Rev. Sci. Instrum. 88 123302 (2017)
  135. Дерягин Б В, Чураев Н В Смачивающие пленки (М.: Наука, 1984)
  136. Wieck A D "Ionensorten" http://www.rub.de/afp/
  137. Kukharchyk N et al Appl. Phys. A 122 1072 (2016)
  138. Wortmann M et al Rev. Sci. Instrum. 84 093305 (2013)
  139. Barr D L J. Vac. Sci. Technol. B 5 184 (1987)
  140. Rao S et al J. Vac. Sci. Technol. B 7 1787 (1989)
  141. Викулова И В и др Электронная промышленность (10) 39 (1990)
  142. Жарков В В, Паршин Г Д, Черняк Е Я ПТЭ (1) 232 (1989)
  143. Belykh S F et al Surf. Coatings Technol. 53 289 (1992)
  144. Mazarov P et al Appl. Surf. Sci. 254 7401 (2008)
  145. Bischoff L, Pilz W, Mazarov P, Wieck A D Appl. Phys. A 99 145 (2010)
  146. Kollmer F Appl. Surf. Sci. 231-232 153 (2004)
  147. Wagner A J. Vac. Sci. Technol. 16 1871 (1979)
  148. Gierak J et al Microelectron. Eng. 87 1386 (2010)
  149. Ishitani T, Umemura K, Kawanami Y J. Vac. Sci. Technol. B 6 931 (1988)
  150. Дудников В Г, Шабалин A Л ПТЭ (5) 149 (1986)
  151. Шабалин A Л "Электрогидродинамические источники ионных пучков" Дисс. ... канд. физ.-мат. наук (Новосибирск: ИЯФ СО АН СССР, 1989)
  152. Van de Walle J, Tarento R J, Joyes P Z. Phys. D 20 17 (1991)
  153. Kreissig U J. Phys. D 23 959 (1990)
  154. Mair G L R et al Appl. Phys. A 81 385 (2005)
  155. Bischoff L et al Ultramicroscopy 100 1 (2004)
  156. Aidinis C J et al Microelectron. Eng. 73-74 116 (2004)
  157. Higuchi-Rusli R Rev. Sci. Instrum. 67 3501 (1996)
  158. Bischoff L et al J. Phys. Conf. Ser. 10 214 (2005)
  159. Georgieva S et al Vacuum 51 (2) 99 (1998)
  160. Shpyrko O G et al Science 313 77 (2006)
  161. Mazarov P et al J. Vac. Sci. Technol. B 47 (2009)
  162. Березовская В В, Ишина Е А, Озерец Н Н Диаграммы состояния тройных систем (М.: Флинта, 2017)
  163. Melnikov A et al Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 195 422 (2002)
  164. Mazarov P et al "Light and heavy ions from new non-classical liquid metal alloy ion sources for advanced nanofabrication" AVS 66th Intern. Symp. and Exhibition, Columbus, Ohio, October 20 - 25, 2019
  165. Bischoff L, Akhmadaliev Ch J. Phys. D 41 052001 (2008)
  166. Pilz W et al J. Vac. Sci. Technol. B 37 021802 (2019)
  167. A Simple Sputter Yield Calculator, https://www.iap.tuwien.ac.at/www/surface/sputteryield
  168. Ziegler J F, Biersack J P, Littmark U The Stopping and Range of Ions in Solids (New York: Pergamon Press, 1985), and version SRIM-2012.03; http://www.srim.com
  169. Bischoff L et al J. Vac. Sci. Technol. B 38 042801 (2020)
  170. Дудников В Г, Шабалин А Л Физика кластеров (Под ред. А А Вострикова, А К Реброва) (Новосибирск: Институт теплофизики СО АН СССР, 1987) с. 23
  171. Knapp W, Bischoff L, Teichert J Appl. Surf. Sci. 146 134 (1999)
  172. Thorn A et al Rev. Sci. Instrum. 83 02A511 (2012)
  173. Swanson L W, Schwind G A J. Appl. Phys. 49 5655 (1978)
  174. Chen L W, Wang Y L Appl. Phys. Lett. 72 389 (1998)
  175. Rao K A et al J. Vac. Sci. Technol. B 7 1793 (1989)
  176. Hata K et al J. Physique C 6 49 125 (1988)
  177. Hata K et al J. Phys. Colloques C6-177 (1987)
  178. Sheu B L, Wang Y L Appl. Phys. Lett. 80 1480 (2002)
  179. Mair G L R J. Phys. D 17 2323 (1984)
  180. Mair G L R Vacuum 36 847 (1986)
  181. Mair G L R Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 43 240 (1989)
  182. Vladimirov V V et al J. Vac. Sci. Technol. B 9 2582 (1991)
  183. Forbes R G J. Aerosol Sci. 31 (1) 97 (2000)
  184. Thompson S, Prewett D J. Phys. D 17 2305 (1984)
  185. Akhmadaliev Ch et al Microelectron. Eng. 73-74 120 (2004)
  186. Шикин В Б УФН 181 1241 (2011); Shikin V B Phys. Usp. 54 1203 (2011)
  187. Владимиров В В, Горшков В Н ДАН СССР 297 1107 (1987)
  188. Габович М Д, Гасанов И С, Проценко И М ЖТФ 58 2367 (1988)
  189. Шабалин A Л Письма в ЖТФ 15 (6) 27 (1989)
  190. Коваленко В П, Шабалин А Л Письма в ЖТФ 15 (6) 62 (1989)
  191. Beckman J C et al J. Vac. Sci. Technol. B 15 2332 (1997)
  192. Alton G D, Read P M Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 54 7 (1991)
  193. Hagen C W, Fokkema E, Kruit P J. Vac. Sci. Technol. B 26 2091 (2008)
  194. Orloff J, Swanson L W J. Vac. Sci. Technol. 19 1149 (1981)
  195. Schwind G A, Swanson L W J. Vac. Sci. Technol. B 25 2586 (2007)
  196. Ward J W J. Vac. Sci. Technol. B 3 207 (1985)
  197. Georgieva S, Vichev R G, Drandarov N Vacuum 44 1109 (1993)
  198. Kamura M et al Appl. Phys. Lett. 42 908 (1983)
  199. Knauer W Optik 59 335 (1981)
  200. Miyauchi E et al Jpn. J. Appl. Phys. 26 L145 (1987)
  201. Ishitani T, Kawanami Y, Shuhuri S Jpn. J. Appl. Phys. 26 1777 (1987)
  202. Kubena R L, Ward J W Appl. Phys. Lett. 51 1960 (1987)
  203. Ward J W, Utlaut M W, Kubena R L J. Vac. Sci. Technol. B 5 169 (1987)
  204. Ward J W, Kubena R L, Utlaut M W J. Vac. Sci. Technol. B 6 2090 (1988)
  205. Komuro M Appl. Phys. Lett. 52 75 (1988)
  206. Ishitani T et al Appl. Phys. A. 44 233 (1987)
  207. Advanced Focused Ion Beam Nanofabrication Capabilities of the NanoFIBTWO Source and Column Technology, White Paper, Raith, 2014
  208. Knauer W J. Vac. Sci. Technol. 16 1676 (1979)
  209. Mair G L R, Mulvey T, Forbes R G J. Physique C 9 179 (1984)
  210. Sudraud P, Colliex C, van de Walle J J. Physique 40 L207 (1979)
  211. Дудников В Г, Шабалин А Л ЖТФ 60 (4) 131 (1990)
  212. Beckman J C et al J. Vac. Sci. Technol. B 14 3911 (1996)
  213. Sakurai T, Culbertson R J, Robertson G H Appl. Phys. Lett. 34 11 (1979)
  214. Kim Y G et al J. Phys. D 31 3463 (1998)
  215. Bischoff L et al Microelectron. Eng. 53 613 (2000)
  216. Hornsey R Appl. Phys. A 49 697 (1989)
  217. Aidinis C et al J. Phys. D 34 L14 (2001)
  218. Bischoff L Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 266 1846 (2008)
  219. Marriott P Appl. Phys. A 44 329 (1987)
  220. Ishitani T, Umemura K, Kawanami Y J. Appl. Phys. 61 748 (1987)
  221. Yang P et al J. Chem. Phys. 135 034502 (2011)
  222. Bundaleski N et al Int. J. Mass Spectrom. 353 19 (2013)
  223. Zhang S et al Ionic Liquids. Physicochemical Properties (Amsterdam: Elsevier, 2009)
  224. Perez-Martinez C et al Microelectron. Eng. 88 2088 (2011)
  225. Larriba C et al J. Appl. Phys. 101 084303 (2007)
  226. Losano P, Martínez-Sánchez M J. Colloid Interface Sci. 280 (1) 149 (2004)
  227. Brikner N, Losano P Appl. Phys. Lett. 101 193504 (2012)
  228. Takeuchi M et al Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 315 234 (2013)
  229. Takaoka G H et al Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 315 257 (2013)
  230. Takeuchi M et al Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 315 345 (2013)
  231. Perez-Martinez C S, Lozano P C Appl. Phys. Lett. 107 043501 (2015)
  232. Xu T, Tao Z, Lozano P C J. Vac. Sci. Technol. B 36 052601 (2018)
  233. Fujiwara Y et al J. Appl. Phys. 111 064901 (2012)
  234. Fujiwara Y et al Surf. Interface Anal. 45 517 (2013)
  235. Fujiwara Y, Saito N Rapid Com. Mass Spectrom. 31 1859 (2017)
  236. Perez-Martinez C et al J. Vac. Sci. Technol. B 25 (2010)
  237. Bischoff L Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 266 1846 (2008)
  238. Черепин В T Ионный зонд (Киев: Наукова думка, 1981)
  239. Bruchhaus L "An ion beam complement to electron beam writers" Dissertation, Lehrstuhl Experimentelle Physik l (Dortmund: Tech. Univ. Dortmund, 2012)
  240. Bischoff L et al "Nanostructures by mass-separated FIB" FIB Nanostructures (Lecture Notes on Nanoscale Science and Technology, Vol. 20, Ed. Z Wang, Lecture Notes on Nanoscale Science and Technology) Vol. 20 (Ed. Z Wang) (Berlin: Springer, 2013)
  241. Bischoff L, Mair G L R Recent Res. Developments Appl. Phys. 6 123 (2003)
  242. Gierak J Nanofabrication 1 35 (2014)
  243. Sloyan K, Melkonyan H, Dahlem M S Int. J. Adv. Manuf. Technol. 107 4469 (2020)
  244. Baglin J E E Appl. Phys. Rev. 7 011601 (2020)
  245. Mühle R Rev. Sci. Instrum. 63 3040 (1992)
  246. Joshi-Imre A, Bauerdick S J. Nanotechnology 2014 ID170415 (2014)
  247. Bauerdick S et al J. Vac. Sci. Technol. B 31 06F404 (2013)
  248. Nadzeyka A et al Microelectron. Eng. 98 198 (2012)
  249. Wanzenboeck H D, Waid S "Focused ion beam lithography" Recent Advances in Nanofabrication Techniques and Applications (Ed. B Cui) (Rijeka: InTech, 2011)
  250. Bauerdick S Microscopy Analysis (January/February) 11-13 (2018)
  251. Yao N, Epstein A K Microscopy: Science, Technology, Applications and Education (Badajoz: Formatex Research Center, 2010) p. 2190
  252. Stanishevsky A V "Focused ion beam nanofabrication" Encyclopedia of Nanoscience and Nanotechnology Vol. 3 (Stevenson Ranch, CA: American Scientific Publ., 2004) p. 469
  253. Watt F et al Int. J. Nanosci. 4 269 (2005)
  254. Matsui S et al J. Vac. Sci. Technol. B 9 2622 (1991)
  255. Bischoff L Ultramicroscopy 103 59 (2005)
  256. Melngailis J J. Vac. Sci. Technol. B 5 469 (1987)
  257. Tseng A A Nanolithography 6 594 (2005)
  258. Евстрапов А А и др Науч. тех. вест. СПГУ Инф. тех. мех. опт. (4) 59 (2010)
  259. Gierak J Semicond. Sci. Technol. 24 043001 (2009)
  260. Gierak J et al Ultramicroscopy 109 457 (2009)
  261. Seniutinas G et al Nanofabrication 2 54 (2015)
  262. RAITH. Nanofabrication, https://www.raith.com/
  263. Йеде Р Наноиндустрия (2) 8 (2012)
  264. VELION: FIB-SEM where FIB truly comes first. FIB and SEM for Nanofabrication, Nanoengineering and Inspection, Technical Notes, Raith (2019)
  265. Mazarov P Lithography Meets FIB: Gallium Free Focused Ion Beam Nanofabrication, FIB Workshop Zurich, 23.06.2014
  266. Chen Y et al Nano Lett. 16 3253 (2016)
  267. Nadzeyka A et al FIB Based Sketch and Peel with Various Ion Species for Fast and Precise Patterning of Large Structures. EIPBN Conference (2018)
  268. Levi-Setti R, Fox T R Nucl. Instrum. Meth. 168 139 (1980)
  269. Yao N, Wang Z L (Eds) Handbook of Microscopy for Nanotechnology (Dordrecht: Kluwer Acad. Publ., 2005)
  270. Яо Н, Ван Ч Л (Ред.) Справочник по микроскопии для нанотехнологии (М.: Научный мир, 2011)
  271. Volkert M A, Minor A M MRS Bull. 32 389 (2007)
  272. Phaneuf M W Micron 30 277 (1999)
  273. Nastasi M, Mayer J, Hirvonen J Ion-Solid Interactions: Fundamentals and Applications ((Cambridge Solid State Science Series)) (Cambridge: Cambridge Univ. Press, 1996)
  274. Nastasi M, Mayer J W Ion Implantation and Synthesis of Materials (Berlin: Springer-Verlag, 2006)
  275. Utke I, Hoffmann P, Melngailis J J. Vac. Sci. Technol. B 26 1197 (2008)
  276. Giannuzzi L A, Stevieb F A Micron 30 197 (1999)
  277. Mayer J et al MRS Bull. 32 400 (2007)
  278. Langford E M, Rogers M Micron 39 1325 (2008)
  279. Кузнецова М А, Лучинин В В, Савенко А Ю Изв. СПбГЭТУ "ЛЭТИ". Сер. Физика твёрдого тела и электроника (2) 28 (2006)
  280. Pezzagna S et al Small 6 2117 (2010)
  281. Lesik M et al Phys. Status Solidi A 210 2055 (2013)
  282. Kunstmann T et al Rev. Sci. Instrum. 77 086105 (2006)
  283. Коноплев Б Г и др Микроэлектроника 41 47 (2012)
  284. Толстогузов А Б Масс-спектрометрия 6 280 (2009); Tolstoguzov A B J. Anal. Chem. 65 1311 (2010)
  285. Miyaki T et al Cell Tissue Res. 379 245 (2020)
  286. Nastasi M, Mayer J W Mater. Sci. Eng. 12 (1) 1 (1994)
  287. Rangelow I W et al J. Vac. Sci. Technol. B 36 (6) 06J102 (2018)
  288. Holz M et al Microscopy Today 27 (6) 24 (2019)
  289. Mykkänen E et al Nanomaterials 10 950 (2020)
  290. Tilli M et al Handbook of Silicon Based MEMS Materials and Technologies (Waltham: Elsevier, 2020)
  291. Дубровин А Н, Дудников В Г, Ковалевский Д В, Шабалин А Л ПТЭ (2) 180 (1991); Дубровин А Н, Дудников В Г, Ковалевский Д В, Шабалин А Л Препринт 89-50 (Новосибирск: Институт ядерной физики СО АН СССР, 1989); Дубровин А Н, Дудников В Г, Ковалевский Д В, Шабалин А Л http://irbiscorp.spsl.nsc.ru/fulltext/prepr/1989/p1989_50.pdf
  292. Prewett P D, Kellogg E M Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 6 135 (1985)
  293. Reyntjens S, Puers R J. Micromech. Microeng. 11 287 (2001)
  294. Лучинин В В Лучинин В В, Савенко А Ю "Наноразмерные ионно-лучевые технологии" Нанотехнология: физика, процессы, диагностика, приборы. Монография (Под ред. В В Лучинина, Ю М Таирова) (М.: Физматлит, 2006)
  295. Yao N Focused Ion Beam Systems - Basics and Applications (Cambridge: Cambridge Univ. Press, 2007)
  296. Smith N S, Notte J A, Steele A V MRS Bull. 39 320 (2014)
  297. Gila B et al AIP Conf. Proc. 1336 243 (2011)
  298. Benkouider A et al Thin Solid Films 543 69 (2013)
  299. Appleton B R et al Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 272 153 (2011)
  300. Bussone G et al J. Appl. Cryst. 46 887 (2013)
  301. Scholz S et al arXiv:1506.08989
  302. Tongay S et al Appl. Phys. Lett. 100 073501 (2012)
  303. Pearton S J et al J. Nanoeng. Nanomanuf. 1 35 (2011)
  304. Gila B P Microscopy Analysis (November) 7 (2013)
  305. Escovitz W H, Fox T R, Levi-Setti R Proc. Natl. Acad. Sci. USA 72 1826 (1975)
  306. Vickerman J C, Swift A Surface Analysis - The Principal Techniques (Ed. J C Vickerman) (Chichester: Wiley, 1997) p. 135
  307. Lamberti W A Handbook of Microscopy for Nanotechnology (Eds N Yao, Z L Wang) (Boston: Kluwer Acad. Publ., 2005) p. 207
  308. Волков С С, Денисов А Г, Толстогузов А Б Обзоры по электронной технике. Сер. 7. Технология, организация производства и оборудование (М.: ЦНИИ Электроника, 1987) с. 61
  309. Волков С С, Толстогузов А Б Послойный анализ полупроводниковых материалов методом вторично-ионной масс-спектрометрии. Обзоры по электронной технике. Сер. 7. Технология, организация производства и оборудование. Вып. 4 (1338) (М.: ЦНИИ Электроника, 1988) с. 48
  310. Толстогузов А Б Перспективные направления развития метода вторично-ионной масс-спектрометрии. Обзоры по электронной технике. Сер. Технология, организация производства и оборудование Вып. 5 (1604) (М.: ЦНИИ Электроника, 1991) с. 67
  311. Толстогузов А Б Поверхность (4) 5 (1994)
  312. Wucher A, Fisher G L, Mahoney C M Cluster Secondary Ion Mass Spectrometry: Principles and Applications, Ed. C M Mahoney (Singapore: Wiley, 2013) p. 207
  313. Zhang L, Dai C, Zhang J Surf. Interface Anal. 52 (5) 306 (2020)
  314. Галль Л Н и др Масс-спектрометрия 5 295 (2008)
  315. Castaing R, Slodzian G J. Microsc. 1 395 (1962)
  316. Liebl H J. Appl. Phys. 38 5277 (1967)
  317. Levi-Setti R, Wang Y, Crow G J. Phys. Colloq. 45 (С9) 197 (1984)
  318. Levi-Setti R, Wang Y L, Crow G Appl. Surf. Sci. 26 249 (1986)
  319. Chabala J M et al Int. J. Mass Spectrom. Ion Proc. 143 191 (1995)
  320. Gavrilov K L et al J. Am. Ceram. Soc. 82 1001 (1999)
  321. Strick R et al J. Cell Biology 155 899 (2001)
  322. Nomura S et al Surf. Interface Anal. 16 105 (1990)
  323. Khursheed A, Cheong K H, Hoang H Q J. Vac. Sci. Technol. B 28 C6F10 (2010)
  324. Eccles A J, Steele T A, Robinson A W Appl. Surf. Sci. 144-145 106 (1999)
  325. Chérioux F et al Appl. Surf. Sci. 253 6140 (2007)
  326. Волков С С и др Электронная промышленность (10) 13 (1990)
  327. Sun S et al Surf. Interface Anal. 36 1367 (2004)
  328. Walker A V, Winograd N Appl. Surf. Sci. 203-204 198 (2003)
  329. Touboul D et al J. Am. Soc. Mass Spectrom. 16 1608 (2005)
  330. Winograd N "The development of secondary ion mass spectrometry (SIMS) for imaging" The Encyclopedia of Mass Spectrometry Vol. 9 Historical Perspectives Pt. A The Development of Mass Spectrometry (Eds K A Nier, A L Yergey, P J Gale) (Amsterdam: Elsevier, 2016) p. 103
  331. Arushanov K A et al Appl. Surf. Sci. 265 642 (2013)
  332. Drozdov M N et al Thin Solid Films 577 11 (2015)
  333. Drozdov M N et al Thin Solid Films 607 25 (2016)
  334. Tolstogouzov A et al Rapid Commun Mass Spectrom. 33 323 (2019)
  335. Rüdenauer F G Surf. Interface Anal. 6 (3) 132 (1984)
  336. Veryovkin I V et al Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B 261 508 (2007)
  337. Pelster A et al Anal. Chem. 88 9638 (2016)
  338. Wirtz T et al Nanotechnology 26 434001 (2015)
  339. Bayly A R, Waugh A R, Anderson K Nucl. Instrum. Meth. 218 375 (1983)
  340. Eswara S et al Appl. Phys. Rev. 6 021312 (2019)
  341. Pillatsch L, Ostlund F, Michler J Prog. Crystal Growth Characterization Mater. 65 (1) 1 (2019)
  342. Grad R, Knott K, Pedersen A Space Sci. Rev. 34 289 (1983)
  343. Riedler W et al Space Sci. Rev. 79 271 (1997)
  344. Stephan T Planet. Space Sci. 49 859 (2001)
  345. Шилобреева С Н Масс-спектрометрия 14 (1) 40 (2017)
  346. Riedler W et al ESA-ISY 4 127 (1992)
  347. Hamelin M et al Adv. Space Res. 10 (3-4) 49 (1990)
  348. Pomathoid L, Michau J L, Hamelin M Rev. Sci. Instrum. 59 2409 (1988)
  349. Hornung K et al Planet. Space Sci. 103 309 (2014)
  350. Bardyn A et al Mon. Not. R. Anstron. Soc. 469 S712 (2017)
  351. Tajmar M Advanced Space Propulsion Systems (Wien: Springer, 2003)
  352. Busek Co. Inc., (2020) http://www.busek.com/index.htm
  353. FOTEC Forschungs- und Technologietransfer GmbH, (2020) https://www.fotec.at
  354. Waydo S, Henry D, Campbell M IEEE Aerospace Conf. Proc. 1 435 (2002)
  355. CubeSat, (2020) http://www.cubesat.org
  356. Enpulsion, (2020) https://www.enpulsion.com
  357. Schönherr T et al Proc. of the 36th Inter. Electric Propulsion Conf. IEPC-2019, Sept. 15-20, 2019 (Vienna: Univ. of Vienna, 2019) p. 362
  358. Bock D, Tajmar M Acta Astronautica 144 422 (2018)
  359. Morpheus Space, (2020) https://www.morpheus-space.com
  360. Paita L et al Proc. of the 31st Inter. Electric Propulsion Conf. IEPC-2009, Sept. 20 - 24, 2009 (Ann Arbor, MI: Univ. of Michigan, 2009) p. 186
  361. Marcuccio S, Genovese A, Andrenucci M J. Propulsion Power 14 774 (1998)
  362. Courtney D G, Li H Q, Losano P J. Phys. D 45 485203 (2012)
  363. Krpoun R et al Appl. Phys. Lett. 94 163502 (2009)
  364. Krpoun R, Shea H R J. Micromech. Microeng. 19 045019 (2009)
  365. Dandavino S et al Proc. of the 33rd Inter. Electric Propulsion Conf. IEPC-2013, Oct. 6-10, 2013 (Washington, DC: The George Washington Univ., 2013) p. 127
  366. MEMS-Based Electric Micropropulsion for Small Spacecraft to Enable Robotic Space Exploration and Space Science, (2020) http://cordis.europa.eu/projects/263035
  367. Marcuccio S, Pergola P, Giusti N ""IL-FEEP: a simplified, low cost electric thruster for micro- and nano-satellites" Paper presented at the ESA-CNES Small Satellites Systems and Services (4S) Symp., Portorose, Slovenia (2012)
  368. Дудников В Источники отрицательных ионов (Новосибирск: НГУ, 2018)
  369. Dudnikov V Development and Applications of Negative Ion Sources (Berlin: Springer, 2019)
  370. Дудников В Г УФН 189 1315 (2019); Dudnikov V G Phys. Usp. 62 1233 (2019)
  371. Geller R Electron Cyclotron Resonance Ion Sources and ECR Plasmas 1st ed. (Bristol: Institute of Physics Publ., 1996)
  372. Донец Е Д ЭЧАЯ 13 941 (1982); Donets E D Sov. J. Part. Nucl. 13 388 (1982)
© Успехи физических наук, 1918–2024
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение