Выпуски

 / 

2019

 / 

Декабрь

  

Приборы и методы исследований


Поверхностно-плазменный метод получения пучков отрицательных ионов

  а, б
а Новосибирский национальный исследовательский государственный университет, Академгородок, ул. Пирогова 2, Новосибирск, 630090, Российская Федерация
б Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН, просп. акад. Лаврентьева 11, Новосибирск, 630090, Российская Федерация

Повышенный интерес к разработке источников отрицательных ионов связан с развитием их важных применений. Это, прежде всего, тандемные ускорители, высокоэнергетическая имплантация и ускорительная масс-спектрометрия, сверхколлимированные пучки, перезарядная инжекция в циклические ускорители и накопители, перезарядный вывод пучков из циклотронов, инжекторы нейтралов высоких энергий в плазменные установки, перезарядная разводка пучков. Описано развитие источников отрицательных ионов и их применение в исследованиях и в промышленности. Дано описание физических основ и конструкций поверхностно-плазменных источников отрицательных ионов, а также история их разработки.

Текст: pdf
Войдите или зарегистрируйтесь чтобы получить доступ к полным текстам статей.
Ключевые слова: поверхностно-плазменный метод, поверхностно-плазменный источник (ППИ), работа выхода, отрицательные ионы, цезий, ВЧ-разряд
PACS: 01.65.+g, 29.25.Ni, 52.80.Pi (все)
DOI: 10.3367/UFNr.2019.04.038558
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/12/e/
Цитата: Дудников В Г "Поверхностно-плазменный метод получения пучков отрицательных ионов" УФН 189 1315–1351 (2019)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

Поступила: 28 февраля 2018, доработана: 16 февраля 2019, 17 апреля 2019

English citation: Dudnikov V G “Surface-plasma method for the production of negative ion beamsPhys. Usp. 62 (12) (2019); DOI: 10.3367/UFNe.2019.04.038558

© Успехи физических наук, 1918–2019
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение