Рассмотрены последние наиболее интересные достижения и тенденции развития технологий выращивания графена на медных подложках. Анализируются влияние качества подготовки подложки и других параметров процесса на свойства плёнок, полученных при разных давлениях и температурах на медной фольге и более тонких слоях меди. Обсуждаются способы получения крупных монокристаллических доменов графена и их свойства, а также технологии, не требующие переноса плёнки графена на диэлектрическую подложку. Ещё один обсуждаемый в статье важный подход — это возможность латерального роста графена от специально сформированных мультиграфеновых или углеродсодержащих зародышей и металлических катализаторов.

PACS: 68.65.Pq, 81.05.ue, 81.15.Gh, 81.16.Be (все) DOI: 10.3367/UFNr.0183.201310i.1115 URL: https://ufn.ru/ru/articles/2013/10/i/ 000329313100004 2013PhyU...56.1013A Цитата: Антонова И В "Современные тенденции развития технологий выращивания графена методом химического осаждения паров на медных подложках" УФН 183 1115–1122 (2013) BibTexBibNote ® (generic) BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks Русский English TY JOUR TI Современные тенденции развития технологий выращивания графена методом химического осаждения паров на медных подложках AU Антонова, И. В. PB Успехи физических наук PY 2013 JO Успехи физических наук JF Успехи физических наук JA Усп. физ. наук VL 183 IS 10 SP 1115-1122 UR https://ufn.ru/ru/articles/2013/10/i/ ER https://doi.org/10.3367/UFNr.0183.201310i.1115 Поступила: 14 февраля 2013, доработана: 2 марта 2013, одобрена в печать: 27 февраля 2013 English citation: Antonova I V “Chemical vapor deposition growth of graphene on copper substrates: current trends” Phys. Usp. 56 1013–1020 (2013); DOI: 10.3367/UFNe.0183.201310i.1115