RSS-ленты
РусскийEnglish
Выпуск 11, 2024
Том год страница
Выпуски Авторы PACS Подписчикам Для авторов

Выпуски

 / 

2007

 / 

Май

←  →

Обзоры актуальных проблем


Магнетронная плазма и нанотехнология

 а,  б,  в
а Институт высоких температур, Объединенный институт высоких температур РАН, Москва, Российская Федерация
б Объединенный институт высоких температур РАН, ул. Ижорская 13/19, Москва, 127412, Российская Федерация
в Institute of Physics, University of Greifswald, Greifswald, Germany

Рассмотрены процессы в потоке магнетронной плазмы, протекающие с участием атомов и кластеров металла. Представлены процессы образования атомов металла вблизи катода и их нуклеации в потоке буферного газа. Прокачка буферного газа с кластерами через магнетронную камеру сопровождается нарушением равновесия между потоком буферного газа и кластерами вблизи выходного отверстия и прилипанием кластеров к стенкам. Проанализированы процессы зарядки кластеров вдали от катода, нарушение равновесия между потоком и кластерами, а также прилипание заряженных кластеров к стенкам камеры. Эти процессы определяют выходные параметры кластерного пучка из магнетронной камеры. Представлен характер напыления кластеров на мишень, которой является как твердая поверхность, так и частицы пылевой плазмы.

Текст pdf (622 Кб)
English fulltext is available at DOI: 10.1070/PU2007v050n05ABEH006138
PACS: 36.40.−c, 52.80.Sm, 61.46.Bc (все)
DOI: 10.3367/UFNr.0177.200705a.0473
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2007/5/a/
000249374100001
2-s2.0-34548594195
2007PhyU...50..455K
Цитата: Каштанов П В, Смирнов Б М, Хипплер Р "Магнетронная плазма и нанотехнология" УФН 177 473–510 (2007)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

English citation: Kashtanov P V, Smirnov B M, Hippler R “Magnetron plasma and nanotechnology” Phys. Usp. 50 455–488 (2007); DOI: 10.1070/PU2007v050n05ABEH006138

Список литературы (254) ↓ Статьи, ссылающиеся на эту (97) Похожие статьи (20)

  1. Penning F M Physica 3 563 (1936)
  2. Kay E J. Appl. Phys. 34 760 (1963)
  3. Gill W D, Kay E Rev. Sci. Instrum. 36 277 (1965)
  4. Wasa K, Hayakawa S Rev. Sci. Instrum. 40 693 (1969)
  5. Mullay J R Res./Dev. 22 (2) 40 (1971)
  6. Shyjumon I Ph.D. Thesis (Greifswald: Greifswald Univ., 2005)
  7. Thornton J A, Penfold A S in Thin Film Processes (Eds J L Vossen, W Kern) (New York: Academic Press, 1978)
  8. Данилин Б С, Сырчин В К Магнетронные распылительные системы (М.: Радио и связь, 1982)
  9. Данилин Б С Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок (М.: Энергоатомиздат, 1989)
  10. Westwood W D in Handbook of Plasma Processing Technology : Fundamentals, Etching, Deposition, and Surface Interactions (Eds S M Rossnagel, J J Cuomo, W D Westwood) (Park Ridge, NJ: Noyes Publ., 1990)
  11. Wasa K, Hayakawa S Handbook of Sputter Deposition Technology: Principles, Technology and Applications (Park Ridge, NJ: Noyes Publ., 1992)
  12. George J Preparation of Thin Films (New York: M. Dekker, 1992)
  13. Schiller S et al. Surf. Coat. Technol. 61 331 (1993)
  14. Scholl R A in 36th Annual Technical Conf. Proc. (Society of Vacuum Coaters) (Albuquerque, NM: SVC, 1993) p. 405
  15. Frach P et al. Surf. Coat. Technol. 59 177 (1993)
  16. Schneider J M, Sproul W D in 40th Annual Technical Conf. Proc. (Society of Vacuum Coaters) (Albuquerque, NM: SVC, 1997) p. 301
  17. Kelly P J, Arnell R D J. Vac. Sci. Technol. A 16 2858 (1998)
  18. Kelly P J, Arnell R D J. Vac. Sci. Technol. A 17 945 (1999)
  19. Chapman B Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching (New York: Wiley, 1980)
  20. Райзер Ю П Физика газового разряда (М.: Наука, 1987)
  21. Wolter M et al. J. Phys. D 38 2390 (2005)
  22. Goeckner M J, Goree J A, Sheridan T E (Jr) IEEE. Trans. Plasma. Sci. 19 301 (1991)
  23. Child C D Phys. Rev. (Ser. I) 32 492 (1911)
  24. Langmuir I Phys. Rev. 2 450 (1913)
  25. Smirnov B M Physics of Ionized Gases (New York: John Wiley, 2001)
  26. Rossnagel S M, Kaufman H R J. Vac. Sci. Technol. A 6 223 (1988)
  27. Haberland H et al. Phys. Rev. Lett. 69 3212 (1992)
  28. Haberland H et al. J. Vac. Sci. Technol. A 10 3266 (1992)
  29. Haberland H et al. Mater. Sci. Eng. B 19 31 (1993)
  30. Haberland H et al. Z. Phys. D 26 8 (1993)
  31. Haberland H et al. J. Vac. Sci. Technol. A 12 2925 (1994)
  32. Haberland H (Ed.) Clusters of Atoms and Molecules (New York: Springer-Verlag, 1994)
  33. Haberland H et al. in Beam Processing Advanced Materials, Proc. of the 2nd Intern. Conf., Cleveland, USA, 1995 (Eds J Singh, J Mazumder, S M Copley) (Materials Park, OH: ASM Intern., 1996) p. 1
  34. Haberland H et al. Surf. Rev. Lett. 3 887 (1996)
  35. Shyjumon I et al. Thin Solid Films 500 41 (2006)
  36. Roth J R Industrial Plasma Engineering Vol. 2 Applications to Nonthermal Plasma Processing (Bristol: IOP Publ., 2001)
  37. Baroch P et al. Surf. Coat. Technol. 193 107 (2005)
  38. Knoll M, Ruska E Z. Phys. 78 318 (1932)
  39. Datta D et al. Eur. Phys. J. D (2006), to be published
  40. Binnig C, Quate C F, Gerber Ch Phys. Rev. Lett. 56 930 (1986)
  41. Schwartz D K et al. Phys. Rev. E 47 452 (1993)
  42. Paillard V et al. Phys. Rev. Lett. 71 4170 (1993)
  43. Butt H-J, Franz V Phys. Rev. E 66 031601 (2002)
  44. Loi S et al. Phys. Rev. E 66 031602 (2002)
  45. Rath S et al. Phys. Rev. B 72 205410 (2005)
  46. Jing G Y et al. Phys. Rev. B 73 235409 (2006)
  47. Richardson C E, Park Y-B, Atwater H A Phys. Rev. B 73 245328 (2006)
  48. Pakarinen O H et al. Phys. Rev. B 73 235428 (2006)
  49. Siegbahn K Alpha-, Beta- and Gamma-Ray Spectroscopy (Amsterdam: North-Holland, 1965)
  50. Jergel M et al. J. Appl. Cryst. 30 642 (1997)
  51. de Bernabé A et al. J. Appl. Phys. 84 1881 (1998)
  52. Toney M F, Mate C M, Pocker D IEEE Trans. Magn. 34 1774 (1998)
  53. Toney M F, Mate C M, Leach K A Appl. Phys. Lett. 77 3296 (2000)
  54. Freitag J M, Clemens B M J. Appl. Phys. 89 1101 (2001)
  55. Mate C M, Toney M F, Leach K A IEEE Trans. Magn. 37 1821 (2001)
  56. Parratt L G Phys. Rev. 95 359 (1954)
  57. Bowen D K, Wormington M Adv. X-Ray Anal. 36 171 (1993)
  58. Lengeler B, Huppauff M, Fresenius J. Anal. Chem. 346 155 (1993)
  59. de Boer D K G, Leenaers A J G, van den Hoogenhof W X-Ray Spectrom. 24 (3) 91 (1995)
  60. Pedersen J S J. Appl. Cryst. 25 129 (1992)
  61. Pedersen J S, Hamley I W J. Appl. Cryst. 27 36 (1994)
  62. Ahrens Y et al. Phys. Rev. E 60 4360 (1999)
  63. Golovin A L, Imamov R M, Stepanov S A Acta. Cryst. A 40 225 (1984)
  64. Dosch H, Batterman B W, Wack D C Phys. Rev. Lett. 56 1144 (1986)
  65. Bernhard N et al. Z. Phys. B 69 303 (1987)
  66. Jach T et al. Phys. Rev. B 39 5739 (1989)
  67. Kondrashkina E A et al. J. Appl. Phys. 81 175 (1997)
  68. Marra W C, Eisenberger P, Cho A Y J. Appl. Phys. 50 6927 (1979)
  69. Golovin A L, Imamov R M Phys. Status Solidi A 80 K63 (1983)
  70. Golovin A L, Imamov R M, Kondrashkina E A Phys. Status Solidi A 88 505 (1985)
  71. Имамов Р М и др. Поверхность (3) 41 (1987)
  72. Segmüller A Thin Solid Films 154 33 (1987)
  73. Dosch H et al. Phys. Rev. Lett. 60 2382 (1988)
  74. Grotehans S et al. Phys. Rev. B 39 8450 (1989)
  75. Williams A A et al. Phys. Rev. B 43 5001 (1991)
  76. Rugel S et al. J. Appl. Cryst. 26 34 (1993)
  77. Pietsch U et al. J. Appl. Phys. 74 2381 (1993)
  78. Etgens V H et al. Phys. Rev. B 47 10607 (1993)
  79. Stepanov S A et al. Phys. Rev. B 54 8150 (1996)
  80. Wulff H, Steffen H in Low Temperature Plasma Physics: Fundamental Aspects and Applications (Eds R Hippler et al.) (Berlin: Wiley-VCH, 2001) p. 253
  81. Demtröder W Laser Spectroscopy: Basic Concepts and Instrumentation 3rd ed. (Berlin: Springer-Verlag, 2003)
  82. Griem H R Plasma Spectroscopy (New York: McGraw-Hill, 1964)
  83. Svanberg S Atomic and Molecular Spectroscopy: Basic Aspects and Practical Applications (Springer Series on Atoms + Plasmas, Vol. 6) (Berlin: Springer-Verlag, 1991)
  84. Lochte-Holtgreven W Plasma Diagnostics (New York: AIP Press, 1995)
  85. Haverlag M et al. J. Vac. Sci. Technol. A 14 380 (1996)
  86. Röpcke J et al. Plasma Chem. Plasma Process. 19 395 (1999)
  87. Davies P B, Martineau P M Adv. Mater. 4 729 (1992)
  88. Haverlag M et al. J. Vac. Sci. Technol. A 12 3102 (1994)
  89. Naito S et al. Jpn. J. Appl. Phys. 34 302 (1995)
  90. Kotterer M, Conceicao J, Maier J P Chem. Phys. Lett. 259 233 (1996)
  91. Campargue A, Romanini D, Sadeghi N J. Phys. D 31 1168 (1998)
  92. Röpcke J et al. in Low Temperature Plasma Physics: Fundamental Aspects and Applications (Eds R Hippler et al.) (Berlin: Wiley-VCH, 2001) p. 173
  93. Langmuir I, Mott-Smith H M Gen. Elec. Rev. 26 731 (1923)
  94. Pfau S, Tichý M in Low Temperature Plasma Physics: Fundamental Aspects and Applications (Eds R Hippler et al.) (Berlin: Wiley-VCH, 2001) p. 131
  95. Straňák V et al. Czech. J. Phys. C 54 826 (2004)
  96. Chung P M, Talbot L, Touryan K J Electrical Probes in Stationary and Flowing Plasmas. Theory and Application (Applied Physics and Engineering, Vol. 11) (New York: Springer-Verlag, 1975)
  97. Sanmartin J R Phys. Fluids 13 103 (1970)
  98. Laframboise J G, Rubinstein J Phys. Fluids 19 1900 (1976)
  99. Schmidt M, Foest R, Basner R in Low Temperature Plasma Physics: Fundamental Aspects and Applications (Eds R Hippler et al.) (Berlin: Wiley-VCH, 2001) p. 199
  100. Aikawa H J. Phys. Soc. Jpn. 40 1741 (1976)
  101. Passoth E et al. J. Phys. D 30 1763 (1997)
  102. Kudrna P, Passoth E Contrib. Plasma Phys. 37 417 (1997)
  103. Brown I G et al. Plasma Phys. 13 47 (1971)
  104. Zakrzewski Z, Kopiczynski T, Lubanski M Czech. J. Phys. B 30 1167 (1980)
  105. Arslanbekov R R, Khromov N A, Kudryavtsev A A Plasma Sources Sci. Technol. 3 528 (1994)
  106. Behnke J F et al. Czech. J. Phys. B 49 483 (1999)
  107. Passoth E et al. J. Phys. D 32 2655 (1999)
  108. Blauth E W Dynamische Massenspektrometer (Braunschweig: F. Vieweg, 1965); Blauth E W Dynamic Mass Spectrometers (Amsterdam: Elsevier, 1966)
  109. Drawin H W in Plasma Diagnostics (Ed. W Lochte-Holtgreven) (Amsterdam: North-Holland, 1968)
  110. Schmidt M, Hinzpeter G Beitr. Plasmaphys. 10 183 (1970)
  111. Märk T D, Helm H Acta Phys. Austr. 40 158 (1974)
  112. Vasile M J, Dylla H F in Plasma Diagnostics Vol. 1 (Eds O Auciello, D L Flamm) (Boston: Academic Press, 1989) p. 185
  113. Scoles G (Ed.) Atomic and Molecular Beam Methods Vol. 1 (New York: Oxford Univ. Press) 8 (1988)
  114. Quadrupole mass filter — QMF 200, Oxford applied research, service instruction, version 1.1, http://www.oaresearch.co.uk/nc200data.htm
  115. Samsonov D, Goree J J. Vac. Sci. Technol. A 17 2835 (1999)
  116. Samsonov D, Goree J Phys. Rev. E 59 1047 (1999)
  117. The Stopping and Range of Ions in Matter, http://www.srim.org
  118. Ziegler J F, Biersack J P, Littmark U The Stopping and Range of Ions in Solids (New York: Pergamon Press, 1985)
  119. Biersack J P, Haggmark L G Nucl. Instrum. Methods 174 257 (1980)
  120. Möller W, Eckstein W Nucl. Instrum. Methods B 2 814 (1984)
  121. Biersack J P, Eckstein W Appl. Phys. 34 73 (1984)
  122. Eckstein W Computer Simulation of Ion-Solid Interactions (Springer Series in Materials Science, Vol. 10) (Heidelberg: Springer-Verlag, 1991)
  123. Thornton J A, Green J E in Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings: Science, Technology, and Applications (Ed. R F Bunshah) 2nd ed. (Park Ridge, NJ: Noyes Publ., 1994) p. 249
  124. Westwood W D Prog. Surf. Sci. 7 711 (1976)
  125. Feldman L C, Mayer J W Fundamentals of Surface and Thin Film Analysis (New York: North-Holland, 1986)
  126. Stepanova M, Dew S K J. Vac. Sci. Technol. A 19 2805 (2001)
  127. Ekpe S D, Dew S K J. Vac. Sci. Technol. A 21 476 (2003)
  128. Thompson M W Philos. Mag. 18 377 (1968)
  129. Vidal M A, Asomoza R J. Appl. Phys. 67 477 (1990)
  130. Jena P et al. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 206 3 (1991)
  131. Drüsedau T P, Löhmann M, Garke B J. Vac. Sci. Technol. A 16 2728 (1998)
  132. Webb J B J. Appl. Phys. 53 9043 (1982)
  133. Emsley J The Elements 3rd ed. (New York: Oxford Univ. Press, 1997)
  134. Леонас В Б УФН 107 29 (1972); Leonas V B Sov. Phys. Usp. 15 266 (1972)
  135. Смирнов Б М УФН 164 665 (1994); Smirnov B M Phys. Usp. 37 621 (1994)
  136. Smirnov B M, Strizhev A Ju Phys. Scripta 49 615 (1994)
  137. Смирнов Б М УФН 167 1169 (1997); Smirnov B M Phys. Usp. 40 1117 (1997)
  138. Егоров В С и др. Справочник констант элементарных процессов с участием атомов, ионов, электронов, фотонов (Под ред. А Г Жиглинского) (СПб: Изд-во СПбГУ, 1994)
  139. Smirnov B M Clusters and Small Particles: in Gases and Plasmas (New York: Springer, 2000)
  140. Кондратьев В Н Константы скорости газофазных реакций Справочник (М.: Наука, 1970)
  141. Becker A, Langel W, Knözinger E Z. Phys. Chem. 188 17 (1995)
  142. Smirnov B M, Shyjumon I, Hippler R Phys. Scripta 73 288 (2006)
  143. Hippler R, Shyjumon I, Smirnov B M Phys. Rev. (2006), in press
  144. Смирнов Б М УФН 170 495 (2000); Smirnov B M Phys. Usp. 43 453 (2000)
  145. Smirnov B M Statistical Physics and Physical Kinetics of Atomic Systems (Moscow: IVTRAN, 2001)
  146. Смирнов Б М УФН 173 609 (2003); Smirnov B M Phys. Usp. 46 589 (2003)
  147. Smirnov B M Contrib. Plasma Phys. 44 558 (2004)
  148. Ландау Л Д, Лифшиц Е М Гидродинамика (М.: Наука, 1986)
  149. Smirnov B M Phys. Scripta 51 380 (1995)
  150. Власов М А, Жаринов А В, Коваленко Ю А ЖТФ 71 (12) 34 (2001)
  151. Hippler R et al. Contrib. Plasma Phys. 45 348 (2005)
  152. Лэмб Г Гидродинамика (М.-Л.: Гостехиздат, 1947)
  153. Ландау Л Д, Лифшиц Е М Механика (М.: Наука, 1988)
  154. Wannier G H Bell Syst. Tech. J. 32 170 (1953)
  155. Смирнов Б М ДАН СССР 168 322 (1966)
  156. Смирнов Б М Физика слабоионизованного газа в задачах с решениями 3-е изд. (М.: Наука, 1985)
  157. Kersten H et al. New J. Phys. 5 93 (2003)
  158. Smirnov B M Phys. Scripta 62 111 (2000); Смирнов Б М УФН 171 233 (2001); Smirnov B M Phys. Usp. 44 221 (2001)
  159. Смирнов Б М в кн. Энциклопедия низкотемпературной плазмы Т. VIII-1 (Под ред. Ю А Лебедева, Н А Платэ, В Е Фортова) (М.: Янус-К, 2005) с. 50
  160. Волощук В М Кинетическая теория коагуляции (Л.: Гидрометеоиздат, 1984)
  161. Rao B K, Smirnov B M Phys. Scripta 56 439 (1997)
  162. Rao B K, Smirnov B M Mater. Phys. Mech. 5 1 (2002)
  163. Морохов И Д, Трусов Л И, Лаповок В Н Физические явления в ультрадисперсных средах (М.: Энергоатомиздат, 1984)
  164. Крайнов В П, Смирнов М Б УФН 170 969 (2000); Krainov V P, Smirnov M B Phys. Usp. 43 901 (2000)
  165. Krainov V P, Smirnov M B Phys. Rep. 370 237 (2002)
  166. Rühl E Int. J. Mass Spectrom. 229 117 (2003)
  167. Saalmann U, Siedschlag Ch, Rost J M J. Phys. B 39 R39 (2006)
  168. Korvink J G, Greiner A Semiconductors for Micro- and Nanotechnology (Weinheim: Wiley-VCH, 2002)
  169. Poole Ch P, Owens F J Introduction to Nanotechnology (Hoboken, NJ: J. Wiley, 2003)
  170. Wolf E L Nanophysics and Nanotechnology: an Introduction to Modern Concepts in Nanoscience (Weinheim: Wiley-VCH, 2004)
  171. Köhler M, Fritzsche W Nanotechnology: an Introduction to Nanostructuring Techniques (Weinheim: Wiley-VCH, 2004)
  172. Borisenko V E, Ossicini S What is What in the Nanoscience (Weinheim: Wiley-VCH, 2004)
  173. Kelsall R W, Hamley I W, Geoghegan M (Eds) Nanoscale Science and Technology (Chichester: John Wiley, 2005)
  174. Gleiter H Nanostruct. Mater. 1 1 (1992)
  175. Gleiter H Nanostruct. Mater. 6 3 (1995)
  176. Edelstein A S, Cammarata R C (Eds) Nanomaterials: Synthesis, Properties, and Applications (Bristol: IOP, 1996)
  177. Jena P, Khanna S N Mater. Sci. Eng. A 217 - 218 218 (1996)
  178. Weisbuch C, Vinter B Quantum Semiconductor Structures: Fundamentals and Applications (Boston: Academic Press, 1991)
  179. Banyai L, Koch S W Semiconductor Quantum Dots (Singapore: World Scientific, 1993)
  180. Weisbuch C, Vinter B The Quantum Dot (New York: Freeman, 1995)
  181. Alivisatos A P Science 271 933 (1996)
  182. Che M, Bennett C O Adv. Catal. 36 55 (1989)
  183. Henry C R Surf. Sci. Rep. 31 231 (1998)
  184. de Heer W A, Milani P, Châtelain A Phys. Rev. Lett. 65 488 (1990)
  185. Khanna S N, Linderoth S Phys. Rev. Lett. 67 742 (1991)
  186. Khanna S N, Jena P Phys. Rev. Lett. 69 1664 (1992)
  187. Weiel R Z. Phys. D 27 89 (1993)
  188. Takagi T Ionized-Cluster Beam Deposition and Epitaxy (Park Ridge, NJ: Noyes Publ., 1988)
  189. Takagi T, Yamada I, Sasaki A J. Vac. Sci. Technol. 12 1128 (1975)
  190. Yamada I, Usui H, Takagi T J. Phys. Chem. 91 2463 (1987)
  191. Takagi T J. Vac. Sci. Technol. A 2 382 (1984)
  192. Yamada I, Inokawa H, Takagi T J. Appl. Phys. 56 2746 (1984)
  193. Takagi T et al. Thin Solid Films 126 149 (1985)
  194. Takaoka G H, Yamada I, Takagi T J. Vac. Sci. Technol. A 3 2665 (1985)
  195. Usui H, Yamada I, Takagi T J. Vac. Sci. Technol. A 4 52 (1986)
  196. Yamada I et al. J. Vac. Sci. Technol. A 4 722 (1986)
  197. Takagi T Vacuum 36 27 (1986)
  198. Takagi T Pure Appl. Chem. 60 781 (1988)
  199. Sosnowski M, Yamada I Nucl. Instrum. Methods B 46 397 (1990)
  200. Huq S E, McMahon R A, Ahmed H Semicond. Sci. Technol. 5 771 (1990)
  201. Takaoka G H, Ishikawa J, Takagi T J. Vac. Sci. Technol. A 8 840 (1990)
  202. Sosnowski M, Usui H, Yamada I J. Vac. Sci. Technol. A 8 1470 (1990)
  203. Hagena O F Z. Phys. D 20 425 (1991)
  204. Hagena O F Rev. Sci. Instrum. 63 2374 (1992)
  205. Gspann J Nucl. Instrum. Methods B 80 - 81 1336 (1993)
  206. Gspann J Z. Phys. D 26 S174 (1993)
  207. Gspann J Z. Phys. D 3 143 (1986)
  208. Mélinon P et al. Int. J. Mod. Phys. B 9 339 (1995)
  209. Perez A et al. J. Phys. D 30 709 (1997)
  210. Jensen P Rev. Mod. Phys. 71 1695 (1999)
  211. Pellarin M et al. Chem. Phys. Lett. 277 96 (1997)
  212. Mélinon P et al. J. Chem. Phys. 107 10278 (1997)
  213. Palpant B et al. Phys. Rev. B 57 1963 (1998)
  214. Ray C et al. Phys. Rev. Lett. 80 5365 (1998)
  215. Meiwes-Broer K-H Metal Clusters at Surfaces: Structure, Quantum Properties, Physical Chemistry (Berlin: Springer, 2000)
  216. Fuchs G et al. Phys. Rev. B 44 3926 (1991)
  217. Bréchignac C et al. Z. Phys. D 40 516 (1997)
  218. Bréchignac C et al. Phys. Rev. B 2084 (1998)
  219. Jensen P et al. in Nanoclusters and Nanocrystals (Ed. H S Nalwa) (Stevenson Ranch, Calif.: Am. Sci. Publ., 2003)
  220. Witten T A (Jr.), Sander L M Phys. Rev. Lett. 47 1400 (1981)
  221. Meakin P Phys. Rev. A 27 604 (1983)
  222. Meakin P Phys. Rev. A 27 1495 (1983)
  223. Sahimi M et al. Phys. Rev. A 32 590 (1985)
  224. Jensen P et al. Phys. Rev. B 50 15316 (1994)
  225. Jullien R, Botet R Aggregation and Fractal Aggregates (Singapore: World Scientific, 1987)
  226. Vicsek T Fractal Growth Phenomena (Singapore: World Scientific, 1989)
  227. Smirnov B M Phys. Rep. 188 1 (1990); Смирнов Б М Физика фрактальных кластеров (М.: Наука, 1991)
  228. Elam W T et al. Phys. Rev. Lett. 54 701 (1985)
  229. Sawada Y, Dougherty A, Golub J P Phys. Rev. Lett. 56 1260 (1986)
  230. Grier D et al. Phys. Rev. Lett. 56 1264 (1986)
  231. Montano P A et al. Phys. Rev. B 30 672 (1984)
  232. Sattler K in Handbook of Thin Film Material Vol. 5 (Ed. H S Nalwa) (San Diego: Academic Press) 2 (2002)
  233. Zuo J M, Li B Q Phys. Rev. Lett. 88 255502 (2002)
  234. Zhang F et al. Appl. Phys. Lett. 80 127 (2002)
  235. Shyjumon I et al. Eur. Phys. J. D 37 409 (2006)
  236. Chu J H, Lin I Phys. Rev. Lett. 72 4009 (1994)
  237. Thomas H et al. Phys. Rev. Lett. 73 652 (1994)
  238. Hayashi Y, Tachibana K Jpn. J. Appl. Phys. 33 L804 (1994)
  239. Melzer A, Trottenberg T, Piel A Phys. Lett. A 191 301 (1994)
  240. Morfill G E et al. Phys. Plasmas 6 1769 (1999)
  241. Trottenberg T, Melzer A, Piel A Plasma Sources Sci. Technol. 4 450 (1995)
  242. Morfill G E, Thomas H J. Vac. Sci. Technol. A 14 490 (1996)
  243. Нефедов А П, Петров О Ф, Фортов В Е УФН 167 1215 (1997); Nefedov A P, Petrov O F, Fortov V E Phys. Usp. 40 1163 (1997)
  244. Shukla P K, Mamun A A Introduction to Dusty Plasma Physics (Bristol: IOP Publ., 2002)
  245. Фортов В Е и др. УФН 174 495 (2004); Fortov V E et al. Phys. Usp. 47 447 (2004)
  246. Фортов В Е, Храпак А Г, Якубов И Т Физика неидеальной плазмы (M.: Физматлит, 2004)
  247. Fortov V E et al. Письма в ЖЭТФ 63 176 (1996)
  248. Фортов В Е и др. Письма в ЖЭТФ 64 86 (1996)
  249. Kersten H, Schmetz P, Kroesen G M W Surf. Coat. Tech. 108 - 109 507 (1998)
  250. Thieme G et al. in Proc. of the 26th Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases, Greiswald, Germany, 2003 Vol. 1 (Eds J Meichsner, D Loffhagen, H E Wagner) (Greiswald, 2003) p. 251
  251. Hagena O F, Knop G, Ries R KFK Nachr. 23 136 (1991)
  252. Hagena O F Rev. Sci. Instrum. 63 2374 (1992)
  253. Hagena O F, Knop G, Linker G in Physics and Chemistry of Finite Systems: From Clusters to Crystals (NATO ASI Series, Ser. C, No. 374, Eds P Jena, S N Khanna, B K Rao) Vol. 2 (Dordrecht: Kluwer Acad. Publ., 1992) p. 1233
  254. Hagena O F et al. J. Vac. Sci. Technol. A 12 282 (1994)
© Успехи физических наук, 1918–2024
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение