Выпуски

 / 

2007

 / 

Май

  

Обзоры актуальных проблем


Магнетронная плазма и нанотехнология

 а,  б,  в
а Институт высоких температур, Объединенный институт высоких температур РАН, Москва, Российская Федерация
б Объединенный институт высоких температур РАН, ул. Ижорская 13/19, Москва, 127412, Российская Федерация
в Institute of Physics, University of Greifswald, Greifswald, Germany

Рассмотрены процессы в потоке магнетронной плазмы, протекающие с участием атомов и кластеров металла. Представлены процессы образования атомов металла вблизи катода и их нуклеации в потоке буферного газа. Прокачка буферного газа с кластерами через магнетронную камеру сопровождается нарушением равновесия между потоком буферного газа и кластерами вблизи выходного отверстия и прилипанием кластеров к стенкам. Проанализированы процессы зарядки кластеров вдали от катода, нарушение равновесия между потоком и кластерами, а также прилипание заряженных кластеров к стенкам камеры. Эти процессы определяют выходные параметры кластерного пучка из магнетронной камеры. Представлен характер напыления кластеров на мишень, которой является как твердая поверхность, так и частицы пылевой плазмы.

Текст pdf (622 Кб)
English fulltext is available at DOI: 10.1070/PU2007v050n05ABEH006138
PACS: 36.40.−c, 52.80.Sm, 61.46.Bc (все)
DOI: 10.3367/UFNr.0177.200705a.0473
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2007/5/a/
000249374100001
2-s2.0-34548594195
2007PhyU...50..455K
Цитата: Каштанов П В, Смирнов Б М, Хипплер Р "Магнетронная плазма и нанотехнология" УФН 177 473–510 (2007)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

English citation: Kashtanov P V, Smirnov B M, Hippler R “Magnetron plasma and nanotechnologyPhys. Usp. 50 455–488 (2007); DOI: 10.1070/PU2007v050n05ABEH006138

Список литературы (254) Статьи, ссылающиеся на эту (103) ↓ Похожие статьи (20)

  1. Wang Y, Toulkeridou E et al Powder Technology 484 122998 (2026)
  2. Nedyorkin V V, Lavrenyuk A S, Shemchenko E I Bull. Russ. Acad. Sci. Phys. 89 (11) 2129 (2025)
  3. Curda P, Horak A et al Nanoscale 17 (39) 22860 (2025)
  4. Coroa J, Sanzone G et al Surface and Coatings Technology 500 131892 (2025)
  5. Hanuš Jan, Starosta V et al Journal of Vacuum Science & Technology A 43 (6) (2025)
  6. Fedoseev A V, Filippov A V et al Nanomaterials 15 (23) 1802 (2025)
  7. Ahadi A M, Tjardts T et al Vacuum 231 113794 (2025)
  8. Bohra M, Giaremis S et al Advanced Science 11 (43) (2024)
  9. Gushenets V I, Bugaev A S et al Tech. Phys. 69 (7) 1967 (2024)
  10. Knabl F, Bandl Ch et al Journal of Vacuum Science & Technology A 42 (2) (2024)
  11. Curda P, Kaftan D et al Applied Surface Science 640 158307 (2023)
  12. Okunev V D, Szymczak H Journal of Applied Physics 133 (8) (2023)
  13. Curda P, Hippler R et al Surface and Coatings Technology 473 130045 (2023)
  14. Grammatikopoulos P, Bouloumis T, Steinhauer S Phys. Chem. Chem. Phys. 25 (2) 897 (2023)
  15. Zikmund Tomáš, Bulíř J et al Materials 16 (4) 1591 (2023)
  16. Sanzone G, Field S et al ACS Appl. Mater. Interfaces 14 (8) 10154 (2022)
  17. Arnas C, Guidez T et al Physics of Plasmas 29 (7) (2022)
  18. Batková Š, Kozák T et al Surface and Coatings Technology 417 127196 (2021)
  19. Abduev A, Akhmedov A et al J. Phys.: Conf. Ser. 2056 (1) 012046 (2021)
  20. Longo S, Micca L G et al Nanotechnology 32 (14) 145604 (2021)
  21. Okunev V D, Samoilenko Z A et al Phys. Solid State 63 (4) 603 (2021)
  22. Sanzone G, Yin J, Sun H Front. Chem. Sci. Eng. 15 (6) 1360 (2021)
  23. Sanzone G, Yin J et al Review of Scientific Instruments 92 (3) (2021)
  24. Gabriela C L, Acsente T et al Nanomaterials - Toxicity, Human Health and Environment Chapter 5 (2020)
  25. Ferrari P, Sanzone G et al Nanoalloys (2020) p. 1
  26. Okunev V D, Samoilenko Z A et al Tech. Phys. Lett. 46 (1) 42 (2020)
  27. Frontiers of Nanoscience Vol. Cluster Beam Deposition of Functional Nanomaterials and DevicesCluster nanoportals for the hydrogenation of underlying nanofilms15 (2020) p. 87
  28. Chami A, Arnas C J. Plasma Phys. 86 (5) (2020)
  29. Soler-Morala J, Jefremovas E M et al Applied Nano 1 (1) 87 (2020)
  30. Hippler R, Denker Ch Plasma Sources Sci. Technol. 28 (3) 035008 (2019)
  31. Gradov V M, Zimin A M et al Phys. Atom. Nuclei 82 (10) 1376 (2019)
  32. Kovtun Yu V, Shapoval A N, Siusko Y V Plasma Sources Sci. Technol. 28 (10) 105009 (2019)
  33. Arnas C, Chami A et al Physics of Plasmas 26 (5) (2019)
  34. Prudnikov A, Pashkevich Yu et al Advances in Thin Films, Nanostructured Materials, and Coatings Lecture Notes in Mechanical Engineering Chapter 20 (2019) p. 197
  35. Grammatikopoulos P Current Opinion in Chemical Engineering 23 164 (2019)
  36. Filippov A V, Pal A F et al J. Phys.: Conf. Ser. 946 012149 (2018)
  37. Hippler R, Denker Ch Plasma Sources Sci. Technol. 27 (6) 065010 (2018)
  38. Budaev V P Physics Letters A 381 (43) 3706 (2017)
  39. Aussems D U B, Khrapak S A et al Physics of Plasmas 24 (11) (2017)
  40. Stranak V, Hippler R Gas‐Phase Synthesis of Nanoparticles 1 (2017) p. 203
  41. Abduev A Kh, Akhmedov A K et al Crystallogr. Rep. 62 (1) 133 (2017)
  42. Lukin V G, Khvostenko O G Успехи физических наук 187 (09) 981 (2017) [Lukin V G, Khvostenko O G Phys.-Usp. 60 (9) 911 (2017)]
  43. Haberland H Gas‐Phase Synthesis of Nanoparticles 1 (2017) p. 1
  44. Herrendorf A-P, Sushkov V, Hippler R Journal of Applied Physics 121 (12) (2017)
  45. Smirnov B M Успехи физических наук 187 (12) 1329 (2017) [Smirnov B M Phys.-Usp. 60 (12) 1236 (2017)]
  46. Hippler R, Cada M et al J. Phys. D: Appl. Phys. 50 (44) 445205 (2017)
  47. Budaev V P Jetp Lett. 105 (5) 307 (2017)
  48. Pashkevich Yu, Prudnikov A et al 2017 IEEE 7th International Conference Nanomaterials: Application & Properties (NAP), (2017) p. 02NTF30-1
  49. Ahadi A M, Hinz A et al Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 34 (2) (2016)
  50. Grammatikopoulos P, Steinhauer S et al Advances in Physics: X 1 (1) 81 (2016)
  51. Zeniieh D, Rostas A M et al Plasma Process. Polym. 13 (7) 744 (2016)
  52. Ferrec A, Kéraudy Ju, Jouan P-Y Applied Surface Science 390 497 (2016)
  53. Sushkov V, Herrendorf A-P, Hippler R J. Phys. D: Appl. Phys. 49 (42) 425201 (2016)
  54. Mokhnenko М  І, Varyukhin V  M et al Metallofiz. Noveishie Tekhnol. 37 (6) 741 (2016)
  55. Rogov A V, Kapustin Yu V, Martynenko Yu V Tech. Phys. 60 (2) 283 (2015)
  56. Zhao Ju, Singh V et al Phys. Rev. B 91 (3) (2015)
  57. Baitimbetova B A, Vermenichev B M et al Russ Phys J 58 (3) 394 (2015)
  58. Acsente T, Negrea R F et al Eur. Phys. J. D 69 (6) (2015)
  59. Blažek J, Kousal J et al J. Phys. D: Appl. Phys. 48 (41) 415202 (2015)
  60. Ganeva M, Kashtanov P V et al Успехи физических наук 185 (6) 619 (2015) [Ganeva M, Kashtanov P V et al Phys.-Usp. 58 (6) 579 (2015)]
  61. Ivanov A S, Pal A F et al Russ J Gen Chem 85 (5) 1270 (2015)
  62. Smirnov B M, Son E E High Temp 53 (5) 742 (2015)
  63. Ganeva M, Kashtanov P V et al Vacuum 110 140 (2014)
  64. Bray K R, Jiao Ch Q, DeCerbo Je N Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena 32 (3) (2014)
  65. Singh V, Cassidy C et al J. Phys. Chem. C 118 (25) 13869 (2014)
  66. Maicu M, Schmittgens R et al Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 32 (2) (2014)
  67. Drache S, Stranak V et al Journal of Applied Physics 116 (14) (2014)
  68. (International Conference on Micro- and Nano-Electronics 2014) Vol. International Conference on Micro- and Nano-Electronics 2014Surface treatment of polyimide film for metal magnetron deposition in vacuumAlexander A.OrlikovskyV.PetrovD.VertyanovS.TimoshenkovV.Nikolaev9440 (2014) p. 94400A
  69. Tolstoguzov A B, Drozdov M N et al J Anal Chem 69 (13) 1245 (2014)
  70. Ganeva M, Pipa A V et al Plasma Sources Sci. Technol. 22 (4) 045011 (2013)
  71. Ahadi A M, Zaporojtchenko V et al J Nanopart Res 15 (12) (2013)
  72. Rawat R S IEEE Trans. Plasma Sci. 41 (4) 701 (2013)
  73. Cassidy C, Singh V et al Sci Rep 3 (1) (2013)
  74. Rai A, Mutzke A et al Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 316 6 (2013)
  75. Sushkov V, Do H T et al Plasma Sources Sci. Technol. 22 (1) 015002 (2012)
  76. Muslimov A E, Butashin A V et al Crystallogr. Rep. 57 (3) 415 (2012)
  77. Ganeva M, Pipa A V, Hippler R Surface and Coatings Technology 213 41 (2012)
  78. Kvasov N T, Pun’ko A V et al J. Surf. Investig. 6 (1) 145 (2012)
  79. Kudryavtseva E N, Pichugin V F et al J. Surf. Investig. 6 (4) 688 (2012)
  80. Martynenko Yu V, Rogov A V, Shul’ga V I Tech. Phys. 57 (4) 439 (2012)
  81. Peter T, Polonskyi O et al Journal of Applied Physics 112 (11) (2012)
  82. Ganeva M, Peter T et al Contrib. Plasma Phys. 52 (10) 881 (2012)
  83. Gradov V M, Zimin A M et al Plasma Phys. Rep. 38 (13) 1099 (2012)
  84. Nafarizal N, Sasaki K J. Phys. D: Appl. Phys. 45 (50) 505202 (2012)
  85. Rogov A V, Fanchenko S S Tech. Phys. 57 (2) 286 (2012)
  86. Peter T, Wegner M et al Surface and Coatings Technology 205 S38 (2011)
  87. Goncharov A V, Kashtanov P V High Temp 49 (2) 178 (2011)
  88. Smirnov B M Uspekhi Fizicheskikh Nauk 181 (7) 713 (2011)
  89. Okunev V D, Lewandowski S J et al Phys. Solid State 53 (1) 13 (2011)
  90. Straňák V, Block S et al Surface and Coatings Technology 205 (8-9) 2755 (2011)
  91. Hippler R, Bhattacharyya S R, Smirnov B M Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics Vol. Introduction to Complex PlasmasFormation and Deposition of Nanosize Particles on Surfaces59 Chapter 12 (2010) p. 299
  92. Nikolaenko Yu M, Mukhin A B et al Tech. Phys. 55 (8) 1189 (2010)
  93. MOTEGI Nobuo, KUREHASHI Miki et al Japanese Journal of Environmental Infections 25 (5) 302 (2010)
  94. Kabaldin Yu G, Seryi S V et al Russ. Engin. Res. 30 (3) 235 (2010)
  95. Kashtanov P V, Smirnov B M, Hippler R EPL 91 (6) 63001 (2010)
  96. Knyazeva A G, Shanin S A Russ Phys J 53 (1) 83 (2010)
  97. Kashtanov P V, Smirnov B M High Temp 48 (6) 846 (2010)
  98. Cluster Processes in Gases and Plasmas 1 (2010) p. 423
  99. Ekpe S D, Jimenez F J et al Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 27 (6) 1275 (2009)
  100. Straňák V, Čada M et al J. Phys. D: Appl. Phys. 42 (10) 105204 (2009)
  101. Blonskii I V, Goncharov A A et al Tech. Phys. 54 (7) 1052 (2009)
  102. Berndt J, Kovačević E et al Contrib. Plasma Phys. 49 (3) 107 (2009)
  103. Lukyanov G A, Nikolaeva L Yu, Bykov N Yu Fullerenes, Nanotubes and Carbon Nanostructures 16 (5-6) 551 (2008)

© Успехи физических наук, 1918–2026
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение