Магнетронная плазма и нанотехнология
П.В. Каштанов а,
Б.М. Смирнов б,
Р. Хипплер в
а Институт высоких температур, Объединенный институт высоких температур РАН, Москва, Российская Федерация
б Объединенный институт высоких температур РАН, ул. Ижорская 13/19, Москва, 127412, Российская Федерация
в Institute of Physics, University of Greifswald, Greifswald, Germany
Рассмотрены процессы в потоке магнетронной плазмы, протекающие с участием атомов и кластеров
металла. Представлены процессы образования атомов металла вблизи катода и их нуклеации в потоке
буферного газа. Прокачка буферного газа с кластерами через магнетронную камеру сопровождается
нарушением равновесия между потоком буферного газа и кластерами вблизи выходного отверстия и
прилипанием кластеров к стенкам. Проанализированы процессы зарядки кластеров вдали от катода,
нарушение равновесия между потоком и кластерами, а также прилипание заряженных кластеров к
стенкам камеры. Эти процессы определяют выходные параметры кластерного пучка из магнетронной
камеры. Представлен характер напыления кластеров на мишень, которой является как твердая поверхность, так и частицы пылевой плазмы.
|