Annealing of Ion-Implanted Layers Under the Action of Laser Radiation

PACS: 01.10.Fv
DOI: 10.1070/PU1976v019n12ABEH005380
URL: https://ufn.ru/en/articles/1976/12/j/
Citation: Zaripov M M, Khaybullin I B, Shtyrkov E I "Annealing of Ion-Implanted Layers Under the Action of Laser Radiation" Sov. Phys. Usp. 19 1032–1033 (1976)

BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)Medline

RefWorks

RT Journal
T1 Annealing of Ion-Implanted Layers Under the Action of Laser Radiation
A1 Zaripov,M.M.
A1 Khaybullin,I.B.
A1 Shtyrkov,E.I.
PB Physics-Uspekhi
PY 1976
FD 10 Dec, 1976
JF Physics-Uspekhi
JO Phys. Usp.
VO 19
IS 12
SP 1032-1033
DO 10.1070/PU1976v019n12ABEH005380
LK https://ufn.ru/en/articles/1976/12/j/

Оригинал: Зарипов М М, Хайбуллин И Б, Штырков Е И «Отжиг ионно-легированных слоев под действием лазерного излучения» УФН 120 706–708 (1976); DOI: 10.3367/UFNr.0120.197612n.0706