М.С. Ковалев†а,
И.М. Подлесныха,
Р.И. Баталова,б,
С.И. Кудряшова аФизический институт им. П.Н. Лебедева РАН, Ленинский проспект 53, Москва, 119991, Российская Федерация бКазанский физико-технический институт им. Е.К. Завойского ФИЦ Казанский научный центр РАН, Сибирский тракт 10/7, Казань, 420029, Российская Федерация
Сверхлегирование — введение примесей в полупроводники с концентрациями, превышающими равновесную растворимость на порядки величины (∼ 1020 см−3), — открывает путь к формированию примесных зон в запрещённой зоне кремния. Внедрение халькогенов (S, Se, Te) позволяет достичь высоких значений коэффициента поглощения (102—104 см−1) в инфракрасном диапазоне (1—6 мкм) за счёт переходов "примесь—зона". Обзор охватывает механизмы формирования примесных состояний, методы синтеза (ионная имплантация, лазерная обработка), а также структурные, электрические и оптические свойства. Особый фокус — на применении в инфракрасных фотоприёмниках, работающих при комнатной температуре, и решении проблем нестабильности (сегрегация, дефекты) через оптимизацию отжига, селективное легирование и гетероструктуры.
Ключевые слова: кремний, халькогены, легирование, ионная имплантация, импульсный лазерный отжиг, плавление, кристаллизация, глубокие уровни, примесная зона, фотоприёмник PACS:71.55.−i DOI: URL: https://ufn.ru/ru/articles/2026/6/c/ Цитата: Ковалев М С, Подлесных И М, Баталов Р И, Кудряшов С И "Инфракрасная фотопроводимость кремния, легированного халькогенами" УФН196 601–614 (2026)
RefWorks
English
RT Journal
T1 Infrared photoconductivity of chalcogen-doped silicon
A1 Kovalev,M.S.
A1 Podlesnykh,I.M.
A1 Batalov,R.I.
A1 Kudryashov,S.I.
PB Uspekhi Fizicheskikh Nauk
PY 2026
FD 10 Jun, 2026
JF Uspekhi Fizicheskikh Nauk
JO Usp. Fiz. Nauk
VO 196
IS 6
SP 601-614
DO 10.3367/UFNr.2025.12.040077
LK https://ufn.ru/ru/articles/2026/6/c/
Поступила: 16 сентября 2025, доработана: 16 декабря 2025, одобрена в печать: 17 декабря 2025