Работы по созданию источников коротковолнового излучения для нового поколения литографии

К.Н. Кошелев^а, В.Е. Банин^б, Н.Н. Салащенко^в
^аИнститут спектроскопии РАН, ул. Физическая 5, Троицк, Москва, 108840, Российская Федерация
^бASML Netherlands B.V., De Run 6501, Veldhoven, 5504, The Netherlands
^вИнститут физики микроструктур РАН, ул. Ульянова 46, Нижний Новгород, 603950, Российская Федерация

31 января 2007 г. в конференц-зале Физического института им. П.Н. Лебедева РАН состоялась Научная сессия Отделения физических наук Российской академии наук. На сессии были заслушаны доклады:
1. Кошелев К.Н. (Институт спектроскопии РАН, г. Троицк, Московская обл.), Банин В.Е. (ASML, Veldhoven, Нидерланды), Салащенко Н.Н. (Институт физики микроструктур РАН, Нижний Новгород). Работы по созданию источников коротковолнового излучения для нового поколения литографии.
2. Балыкин В.И. (Институт спектроскопии РАН, г. Троицк, Московская обл.). Атомно-проекционная параллельная фабрикация наноструктур.
3. Лозовик Ю.Е., Попов А.М. (Институт спектроскопии РАН, г. Троицк, Московская обл.). Свойства и нанотехнологические применения нанотрубок
Публикуется краткое содержание докладов.

Текст pdf (154 Кб)

Скачивая файл я соглашаюсь с условиями использования.

English fulltext is available at DOI: 10.1070/PU2007v050n07ABEH006321

PACS: 42.72.−g, 42.82.Cr (все)
DOI: 10.3367/UFNr.0177.200707h.0777
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2007/7/h/
Scopus

2-s2.0-35948961904
ADS NASA

2007PhyU...50..741K
Цитата: Кошелев К Н, Банин В Е, Салащенко Н Н "Работы по созданию источников коротковолнового излучения для нового поколения литографии" УФН 177 777 (2007)

BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

English citation: Koshelev K N, Banine V E, Salashchenko N N “Research and development in short-wave radiation sources for new-generation lithography” Phys. Usp. 50 741–744 (2007); DOI: 10.1070/PU2007v050n07ABEH006321

Список литературы (6) ↓ Статьи, ссылающиеся на эту (3) Похожие статьи (20)

Banine V, Moors R J. Phys. D 37 3207 (2004)
Churilov S S, Ryabtsev A N Phys. Scripta 73 614 (2006)
Koshelev K N, Pereira N R J. Appl. Phys. 69 R21 (1991)
Antsiferov P S et al. J. Phys. D 22 1073 (1989)
Koshelev K N et al. in EUV Sources for Lithography (Ed. V Bakshi) (Bellingham, Wash.: SPIE Press, 2006) p. 175
Borisov V M et al. in EUV Sources for Lithography (Ed. V Bakshi) (Bellingham, Wash.: SPIE Press, 2006) p. 477