RSS-ленты
РусскийEnglish
Выпуск 11, 2024
Том год страница
Выпуски Авторы PACS Подписчикам Для авторов

Выпуски

 / 

2019

 / 

Декабрь

←  →

Приборы и методы исследований


Поверхностно-плазменный метод получения пучков отрицательных ионов

†  а, б
а Новосибирский национальный исследовательский государственный университет, Академгородок, ул. Пирогова 2, Новосибирск, 630090, Российская Федерация
б Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН, просп. акад. Лаврентьева 11, Новосибирск, 630090, Российская Федерация

Повышенный интерес к разработке источников отрицательных ионов связан с развитием их важных применений. Это, прежде всего, тандемные ускорители, высокоэнергетическая имплантация и ускорительная масс-спектрометрия, сверхколлимированные пучки, перезарядная инжекция в циклические ускорители и накопители, перезарядный вывод пучков из циклотронов, инжекторы нейтралов высоких энергий в плазменные установки, перезарядная разводка пучков. Описано развитие источников отрицательных ионов и их применение в исследованиях и в промышленности. Дано описание физических основ и конструкций поверхностно-плазменных источников отрицательных ионов, а также история их разработки.

Текст pdf (2,6 Мб)
English fulltext is available at DOI: 10.3367/UFNe.2019.04.038558
Ключевые слова: поверхностно-плазменный метод, поверхностно-плазменный источник (ППИ), работа выхода, отрицательные ионы, цезий, ВЧ-разряд
PACS: 01.65.+g, 29.25.Ni, 52.80.Pi (все)
DOI: 10.3367/UFNr.2019.04.038558
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/12/e/
000518758100004
2-s2.0-85082016723
Цитата: Дудников В Г "Поверхностно-плазменный метод получения пучков отрицательных ионов" УФН 189 1315–1351 (2019)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

Поступила: 28 февраля 2018, доработана: 16 февраля 2019, 17 апреля 2019

English citation: Dudnikov V G “Surface-plasma method for the production of negative ion beams” Phys. Usp. 62 1233–1267 (2019); DOI: 10.3367/UFNe.2019.04.038558

Список литературы (101) Статьи, ссылающиеся на эту (17) ↓ Похожие статьи (13)

  1. Shao Q Metastable Materials 1 (2024) p. 51
  2. Dudnikov V Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics Vol. Development and Applications of Negative Ion SourcesCharge-Exchange Technologies125 Chapter 2 (2023) p. 7
  3. Dudnikov V Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics Vol. Development and Applications of Negative Ion SourcesSurface Plasma Production of Negative Ions125 Chapter 4 (2023) p. 103
  4. Dudnikov V Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics Vol. Development and Applications of Negative Ion SourcesGeneral Remarks on Surface Plasma Sources125 Chapter 8 (2023) p. 463
  5. Melkozerova J A, Gainullin I K VMU (№4_2023) 2340504–1 (2023)
  6. Wang T, Liang W et al Vacuum 211 111971 (2023)
  7. Dudnikov V Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics Vol. Development and Applications of Negative Ion SourcesIntroduction125 Chapter 1 (2023) p. 1
  8. Melkozerova Yu A, Gainullin I K Moscow Univ. Phys. 78 541 (2023)
  9. Dudnikov V Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics Vol. Development and Applications of Negative Ion SourcesSurface Plasma Negative Ion Sources125 Chapter 5 (2023) p. 223
  10. Ieshkin A E, Tolstoguzov A B et al Phys. Usp. 65 677 (2022)
  11. Gainullin I K, Zykova E Yu, Dudnikov V G Bull. Russ. Acad. Sci. Phys. 86 562 (2022)
  12. Melkozerova J A, Gainullin I K J. Surf. Investig. 16 1175 (2022)
  13. Tsumori K, Wada M 8 (2) (2021)
  14. Mazarov P A, Dudnikov V G, Tolstoguzov A B Успехи физических наук 190 1293 (2020) [Mazarov P, Dudnikov V G, Tolstoguzov A B Phys.-Usp. 63 1219 (2020)]
  15. Gainullin I K, Dudnikov V G Plasma Res. Express 2 045007 (2020)
  16. Smith G J, Ellis Ja et al J. Phys. D: Appl. Phys. 53 465204 (2020)
  17. Dudnikov V Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics Vol. Development and Applications of Negative Ion SourcesGeneral Remarks on Surface Plasma Sources110 Chapter 7 (2019) p. 309
© Успехи физических наук, 1918–2024
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение