Повышенный интерес к разработке источников отрицательных ионов связан с развитием их важных применений. Это, прежде всего, тандемные ускорители, высокоэнергетическая имплантация и ускорительная масс-спектрометрия, сверхколлимированные пучки, перезарядная инжекция в циклические ускорители и накопители, перезарядный вывод пучков из циклотронов, инжекторы нейтралов высоких энергий в плазменные установки, перезарядная разводка пучков. Описано развитие источников отрицательных ионов и их применение в исследованиях и в промышленности. Дано описание физических основ и конструкций поверхностно-плазменных источников отрицательных ионов, а также история их разработки.

Ключевые слова: поверхностно-плазменный метод, поверхностно-плазменный источник (ППИ), работа выхода, отрицательные ионы, цезий, ВЧ-разряд PACS: 01.65.+g, 29.25.Ni, 52.80.Pi (все) DOI: 10.3367/UFNr.2019.04.038558 URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/12/e/ 000518758100004 2-s2.0-85082016723 Цитата: Дудников В Г "Поверхностно-плазменный метод получения пучков отрицательных ионов" УФН 189 1315–1351 (2019) BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)Medline RefWorks Русский English RT Journal T1 Поверхностно-плазменный метод получения пучков отрицательных ионов A1 Дудников,В.Г. PB Успехи физических наук PY 2019 FD 10 Dec, 2019 JF Успехи физических наук JO Усп. физ. наук VO 189 IS 12 SP 1315-1351 DO 10.3367/UFNr.2019.04.038558 LK https://ufn.ru/ru/articles/2019/12/e/ Поступила: 28 февраля 2018, доработана: 16 февраля 2019, одобрена в печать: 17 апреля 2019 English citation: Dudnikov V G “Surface-plasma method for the production of negative ion beams” Phys. Usp. 62 1233–1267 (2019); DOI: 10.3367/UFNe.2019.04.038558