Повышенный интерес к разработке источников отрицательных ионов связан с развитием их важных применений. Это, прежде всего, тандемные ускорители, высокоэнергетическая имплантация и ускорительная масс-спектрометрия, сверхколлимированные пучки, перезарядная инжекция в циклические ускорители и накопители, перезарядный вывод пучков из циклотронов, инжекторы нейтралов высоких энергий в плазменные установки, перезарядная разводка пучков. Описано развитие источников отрицательных ионов и их применение в исследованиях и в промышленности. Дано описание физических основ и конструкций поверхностно-плазменных источников отрицательных ионов, а также история их разработки.

Ключевые слова: поверхностно-плазменный метод, поверхностно-плазменный источник (ППИ), работа выхода, отрицательные ионы, цезий, ВЧ-разряд PACS: 01.65.+g, 29.25.Ni, 52.80.Pi (все) DOI: 10.3367/UFNr.2019.04.038558 URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/12/e/ 000518758100004 2-s2.0-85082016723 Цитата: Дудников В Г "Поверхностно-плазменный метод получения пучков отрицательных ионов" УФН 189 1315–1351 (2019) BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks Поступила: 28 февраля 2018, доработана: 16 февраля 2019, одобрена в печать: 17 апреля 2019 English citation: Dudnikov V G “Surface-plasma method for the production of negative ion beams” Phys. Usp. 62 1233–1267 (2019); DOI: 10.3367/UFNe.2019.04.038558