Выпуски

 / 

2010

 / 

Март

  

Приборы и методы исследований


Классификация hut-кластеров Ge в массивах, формируемых на поверхности Si(001) методом молекулярно-лучевой эпитаксии при низких температурах

,
Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук, ул. Вавилова 38, Москва, 119991, Российская Федерация

Методом сканирующей туннельной микроскопии (СТМ) in situ выполнено морфологическое исследование и проведена классификация hut-кластеров Ge, образующих массивы квантовых точек на поверхности Si(001) при низких температурах в процессе сверхвысоковакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии. Установлено, что два основных вида hut-кластеров германия — пирамидальные и клиновидные — имеют разное атомное строение. Сделан вывод о том, что структурные переходы между пирамидальной и клиновидной формами кластеров невозможны. Впервые выявлены и исследованы производные виды кластеров — обелиски (или усечённые клинья) и сросшиеся клиновидные кластеры; установлено, что эти виды кластеров начинают доминировать в массивах при высокой степени покрытия. Показано, что однородность массивов определяется разбросом длин клиновидных кластеров. При низких температурах роста (360 °C) зарождение новых кластеров наблюдается в процессе роста массива при любой степени покрытия атомами Ge, кроме выделенной точки, в которой массивы более однородны, чем при бóльших и меньших значениях степени покрытия. При более высоких температурах (530 °C) после начальной стадии формирования массива зарождение кластеров не наблюдалось.

Текст pdf (1,8 Мб)
English fulltext is available at DOI: 10.3367/UFNe.0180.201003e.0289
PACS: 68.37.Ef, 81.07.Ta, 81.15.Hi (все)
DOI: 10.3367/UFNr.0180.201003e.0289
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2010/3/e/
000280435100004
2-s2.0-77954773542
2010PhyU...53..279A
Цитата: Арапкина Л В, Юрьев В А "Классификация hut-кластеров Ge в массивах, формируемых на поверхности Si(001) методом молекулярно-лучевой эпитаксии при низких температурах" УФН 180 289–302 (2010)
BibTexBibNote ® (generic) BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks
Русский English
TY JOUR
TI Классификация hut-кластеров Ge в массивах, формируемых на поверхности Si(001)  методом молекулярно-лучевой эпитаксии при низких температурах
AU Арапкина, Л. В.
AU Юрьев, В. А.
PB Успехи физических наук
PY 2010
JO Успехи физических наук
JF Успехи физических наук
JA Усп. физ. наук
VL 180
IS 3
SP 289-302
UR https://ufn.ru/ru/articles/2010/3/e/
ER https://doi.org/10.3367/UFNr.0180.201003e.0289

English citation: Arapkina L V, Yuryev V A “Classification of Ge hut clusters in arrays formed by molecular beam epitaxy at low temperatures on the Si(001) surfacePhys. Usp. 53 279–290 (2010); DOI: 10.3367/UFNe.0180.201003e.0289

© Успехи физических наук, 1918–2024
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение