|
||||||||||||||||||
Абляция поверхности материалов под действием ультракоротких лазерных импульсова Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН, Ленинский проспект 53, Москва, 119991, Российская Федерация б Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», Каширское шоссе 31, Москва, 115409, Российская Федерация в Национальный исследовательский университет ИТМО, Кронверкский просп. 49, лит. А, Санкт-Петербург, 197101, Российская Федерация г Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук, ул. Вавилова 38, Москва, 119991, Российская Федерация Последовательно — по мере возрастания вложенной плотности энергии лазерного излучения — рассмотрены различные базовые механизмы абляции поверхности материалов под действием ультракоротких лазерных импульсов: низкопорогового сверхбыстрого разлёта плазмы на стадии электронной динамики, откольной абляции расплава и взрывного гидродинамического разлёта закритического флюида, включая связанную с ними последовательность основных физических релаксационных процессов.
|
||||||||||||||||||
|