Cтатьи, принятые к публикации

Приборы и методы исследований


Поверхностно-плазменный метод получения пучков отрицательных ионов

  а, б
а Новосибирский национальный исследовательский государственный университет, Академгородок, ул. Пирогова 2, Новосибирск, 630090, Российская Федерация
б Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН, просп. акад. Лаврентьева 11, Новосибирск, 630090, Российская Федерация

Повышенный интерес к разработке источников отрицательных ионов связан с развитием важных применений пучков отрицательных ионов. Это, прежде всего, тандемные ускорители, включая высокоэнергичную имплантацию и ускорительную масс- спектрометрию, сверхколлимированные пучки, перезарядная инжекция в циклические ускорители и накопители, перезарядный вывод пучков из циклотронов, инжекторы нейтралов высоких энергий в плазменные установки, перезарядная разводка пучков и т. д. В обзоре описано развитие источников отрицательных ионов и их применение в исследованиях и в промышленности. Дано описание физических основ и конструкций поверхностно-плазменных источников отрицательных ионов, а также история их разработки.

Ключевые слова: поверхностно плазменный метод, поверхностно плазменный источник (ППИ), работа выхода, отрицательные ионы, цезий, ВЧ разряд
DOI: 10.3367/UFNr.2019.04.038558
Цитата: Дудников В Г "Поверхностно-плазменный метод получения пучков отрицательных ионов" УФН, принята к публикации

Поступила: 28 февраля 2018, доработана: 16 февраля 2019, 17 апреля 2019

English citation: Dudnikov V G “Surface-plasma method for negative ion beams productionPhys. Usp., accepted; DOI: 10.3367/UFNe.2019.04.038558

© Успехи физических наук, 1918–2019
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение