Рассмотрены история и современное состояние исследований электрофизических параметров SiC. Представлены основные методы выращивания объёмных кристаллов SiC и эпитаксиальных SiC-плёнок. Дан краткий обзор используемых для послеростовой обработки эпитаксиальных SiC-структур. Показан современный уровень, достигнутый при разработке приборов на основе SiC. Проанализированы основные проблемы, существующие при разработке SiC-приборов, и перспективы создания и развития таких приборов.
Ключевые слова: карбид кремния, объёмные кристаллы, сублимационный рост, политипы, латеральное разращивание, высоковольтные силовые диоды, высоковольтные субнаносекундные импульсные диоды, тиристоры, биполярные транзисторы, аналитические модели, численное моделирование, центр окраски, спин, сенсорика, магнитное поле, оптическое детектирование магнитных резонансов, графен, спектроскопия вынужденного комбинационного расеяния, двумерные материалы PACS:81.05.ue, 81.10.−h, 85.30.−z (все) DOI:10.3367/UFNr.2018.10.038437 URL: https://ufn.ru/ru/articles/2019/8/c/ 000504891900002 2-s2.0-85076766922 2019PhyU...62..754L Цитата: Лебедев А А, Иванов П А, Левинштейн М Е, Мохов Е Н, Нагалюк С С, Анисимов А Н, Баранов П Г "Электроника на основе SiC (к 100-летию Физико-технического института им. А.Ф. Иоффе РАН)" УФН189 803–848 (2019)
TY JOUR
TI SiC-based electronics (100th anniversary of the Ioffe Institute)
AU Lebedev, A. A.
AU Ivanov, P. A.
AU Levinshtein, M. E.
AU Mokhov, E. N.
AU Nagalyuk, S. S.
AU Anisimov, A. N.
AU Baranov, P. G.
PB Uspekhi Fizicheskikh Nauk
PY 2019
JO Uspekhi Fizicheskikh Nauk
JF Uspekhi Fizicheskikh Nauk
JA Usp. Fiz. Nauk
VL 189
IS 8
SP 803-848
UR https://ufn.ru/ru/articles/2019/8/c/
ER https://doi.org/10.3367/UFNr.2018.10.038437
Поступила: 4 сентября 2018, доработана: 1 октября 2018, одобрена в печать: 4 октября 2018