Выпуски

 / 

2006

 / 

Октябрь

  

Обзоры актуальных проблем


Законы подобия в импульсных газовых разрядах


Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН, Ленинский проспект 53, Москва, 119991, Российская Федерация

Проанализирована возможность применения закона подобия для различных типов импульсных разрядов. За основу анализа взята зависимость = f (E/p), где τ — время формирования разряда, p — давление газа, E — импульсная напряженность поля, при которой наступает пробой. Закон справедлив для таунсендовского и стримерного пробоев при сравнительно большой длине промежутка d (для атмосферного воздуха d > 1 см). В миллиметровых промежутках этот закон соблюдается для многих газов только при многоэлектронном инициировании пробоя вплоть до пикосекундного диапазона. При этом время τ определяется от момента достижения амплитуды напряжения до момента начала роста тока и спада напряжения на промежутке в процессе одновременного развития большого числа электронных лавин. При инициировании малым числом электронов время τ почти на порядок больше, чем при многоэлектронном инициировании, что обусловлено сравнительно медленным процессом накопления свободных электронов в промежутке, важную роль в котором играют убегающие электроны (УЭ). Однако время θ быстрого спада напряжения и роста тока в том и другом случае подчиняется закону подобия = F (E/p). Высказано предположение, что источником УЭ является автоэлектронная эмиссия с микровыступов катода, которая прекращается при появлении взрывной эмиссии электронов, что и ограничивает длительность импульса тока УЭ до 10-10 с. Показана справедливость закона подобия pτ = f (E/p) для импульсного СВЧ-пробоя.

Текст pdf (394 Кб)
English fulltext is available at DOI: 10.1070/PU2006v049n10ABEH006118
PACS: 52.80.−s, 52.80.Dy, 52.80.Pi (все)
DOI: 10.3367/UFNr.0176.200610d.1069
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2006/10/d/
000244185100004
2-s2.0-33847031354
2006PhyU...49.1045M
Цитата: Месяц Г А "Законы подобия в импульсных газовых разрядах" УФН 176 1069–1091 (2006)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

English citation: Mesyats G A “Similarity laws for pulsed gas dischargesPhys. Usp. 49 1045–1065 (2006); DOI: 10.1070/PU2006v049n10ABEH006118

Список литературы (54) Статьи, ссылающиеся на эту (80) ↓ Похожие статьи (20)

  1. Wang L, Wu J et al 31 (6) (2024)
  2. Li Ya, Pan Yu et al 30 (3) (2023)
  3. Karabassov T, Vasenko A S et al J. Phys. Chem. Lett. 14 10880 (2023)
  4. Wang H, Venkattraman A et al 134 (10) (2023)
  5. Wang H, Yang D et al 134 (6) (2023)
  6. Fu Ya, Wang H, Wang X Rev. Mod. Plasma Phys. 7 (1) (2023)
  7. Pan Yu, Li Ya et al 29 (5) (2022)
  8. Zubarev N M, Zubareva O V, Yalandin M I Electronics 11 2771 (2022)
  9. Ivanov D A «Izvestiya vysshikh uchebnykh zavedenii. PROBLEMY ENERGETIKI» 24 151 (2022)
  10. Yang D, Wang H et al Plasma Sources Sci. Technol. 31 115002 (2022)
  11. Yang D, Fu Ya et al Plasma Sources Sci. Technol. 30 115009 (2021)
  12. Sharypov K A, Shunailov S A et al IEEE Trans. Plasma Sci. 49 2516 (2021)
  13. Mesyats G A, Vasenina I V Plasma Phys. Rep. 47 907 (2021)
  14. Baboraik A, Usachev A 72 66 (2021)
  15. Bokhan P A, Glubokov N A et al J. Phys.: Conf. Ser. 2064 012010 (2021)
  16. Oreshkin V I, Oreshkin E V Plasma Phys. Control. Fusion 63 125013 (2021)
  17. Balmelli M, Farber R et al IEEE Access 9 100050 (2021)
  18. Fu Ya, Wang H et al Phys. Rev. Applied 16 (5) (2021)
  19. Lyu X, Yuan Ch et al Plasma Phys. Rep. 47 369 (2021)
  20. Kim H Y, Gołkowski M, Harid V Plasma Res. Express 3 025003 (2021)
  21. Garner A L, Meng G et al 128 (21) (2020)
  22. Diab F, Gaber W H et al Can. J. Phys. 98 726 (2020)
  23. Mesyats G A, Yalandin M I et al 116 (6) (2020)
  24. Fu Ya, Zheng B et al 27 (11) (2020)
  25. Ginzburg N S, Zaslavsky V Yu et al 117 (18) (2020)
  26. Fu Ya, Zhang P et al Plasma Res. Express 2 013001 (2020)
  27. Zubarev N, Sadykova A et al 2020 7th International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE), (2020) p. 32
  28. Baboraik A M, Usachev A E, Ali Z M J. Electr. Eng. Technol. 15 1301 (2020)
  29. Zubarev N M, Kozhevnikov V Yu et al Plasma Sources Sci. Technol. 29 125008 (2020)
  30. Fu Ya, Verboncoeur J P IEEE Trans. Plasma Sci. 47 1994 (2019)
  31. Fu Ya, Krek Ja et al Plasma Sources Sci. Technol. 28 095012 (2019)
  32. Beloplotov D B, Lomaev M I et al Russ Phys J 62 1171 (2019)
  33. Naidis G V, Tarasenko V F et al Plasma Sources Sci. Technol. 27 013001 (2018)
  34. Han X-Yu, Wang Ju-H et al Chinese Phys. B 27 085206 (2018)
  35. Peng Ya, Jiang W et al J. Plasma Phys. 84 (5) (2018)
  36. Fu Ya, Parsey G M et al 24 (11) (2017)
  37. Chen L, Yang L et al 88 (11) (2017)
  38. Burachenko A G, Tarasenko V F, Baksht E Kh High Voltage 2 56 (2017)
  39. Oreshkin V I, Oreshkin E V Tech. Phys. 62 32 (2017)
  40. Fu Ya, Parsey G et al 2017 IEEE International Conference on Plasma Science (ICOPS), (2017) p. 1
  41. Malashin M V, Moshkunkov S I et al Plasma Phys. Rep. 43 170 (2017)
  42. Baksht E Kh, Buranchenko A G et al Russ Phys J 60 1413 (2017)
  43. Fu Ya, Wang X et al 24 (8) (2017)
  44. Oreshkin E V, Barengolts S A et al 24 (10) (2017)
  45. Oreshkin V I, Oreshkin E V et al 23 (9) (2016)
  46. Ivanov S N, Sharypov K A Tech. Phys. Lett. 42 274 (2016)
  47. Shunli Ya, Fangming R et al 2016 10th IEEE International Conference on Anti-counterfeiting, Security, and Identification (ASID), (2016) p. 79
  48. Sadykov N R, Akhlyustina E A, Peshkov D A Теоретическая и математическая физика 184 307 (2015) [Sadykov N R, Akhlyustina E A, Peshkov D A Theor Math Phys 184 1163 (2015)]
  49. Ivanov S N, Sharypov K A Tech. Phys. 60 1478 (2015)
  50. Sadykov N R, Belonenko M B, Peshkov D A Semiconductors 49 663 (2015)
  51. Fu Ya-Ya, Luo H-Yu et al Chinese Phys. Lett. 31 075201 (2014)
  52. Fu Ya, Luo H et al IEEE Trans. Plasma Sci. 42 1544 (2014)
  53. Fu Ya, Luo H et al Plasma Sources Sci. Technol. 23 065035 (2014)
  54. Fu Y, Luo H et al 2014 IEEE 41st International Conference on Plasma Sciences (ICOPS) held with 2014 IEEE International Conference on High-Power Particle Beams (BEAMS), (2014) p. 1
  55. Sadykov N R Tech. Phys. 59 1191 (2014)
  56. Stefanović I, Kuschel T et al 116 (11) (2014)
  57. Voronov M, Hoffmann V et al Plasma Sources Sci. Technol. 23 054009 (2014)
  58. Sadykov N R, Kocherga E Yu, D’yachkov P N Russ. J. Inorg. Chem. 58 951 (2013)
  59. Sadykov N R, Scorkin N A, Akhljustina E A Semiconductors 47 1246 (2013)
  60. Sadykov N R, Skorkin N A Tech. Phys. 58 625 (2013)
  61. Meyer C, Franzke J, Gurevich E L J. Phys. D: Appl. Phys. 45 355205 (2012)
  62. Yusupaliev U Bull. Lebedev Phys. Inst. 39 131 (2012)
  63. Shao T, Zhang Ch et al 98 (2) (2011)
  64. Shao T, Tarasenko V F et al New J. Phys. 13 113035 (2011)
  65. Afonin O N Bull. Lebedev Phys. Inst. 38 267 (2011)
  66. Alisoy H Z, Yesil A et al Journal of Electrostatics 69 284 (2011)
  67. Pikulev A A, Tsvetkov V M Tech. Phys. 55 44 (2010)
  68. Sadykov N R, Skorkin N A Tech. Phys. Lett. 36 811 (2010)
  69. Yalandin M I, Reutova A G et al IEEE Trans. Plasma Sci. 38 1398 (2010)
  70. Lissovski A A, Treshchalov A B Physics of Plasmas 16 123501 (2009)
  71. Yalandin M I, Reutova A G et al 2009 IEEE Pulsed Power Conference, (2009) p. 476
  72. Avtaeva S V, Kulumbaev E B Plasma Phys. Rep. 35 329 (2009)
  73. Tardiveau P, Moreau N et al J. Phys. D: Appl. Phys. 42 175202 (2009)
  74. Kudryavtsev A A, Popugaev S D et al 93 (24) (2008)
  75. Yusupaliev U Moscow Univ. Phys. 63 224 (2008)
  76. Nikandrov D S, Tsendin L D et al IEEE Trans. Plasma Sci. 36 131 (2008)
  77. Gizatullin F A, Zinov’ev K V Russ. Aeronaut. 51 173 (2008)
  78. Yusupaliev U, Elenskii V G Bull. Lebedev Phys. Inst. 35 22 (2008)
  79. Mesyats G A, Yalandin M I et al IEEE Trans. Plasma Sci. 36 2497 (2008)
  80. Tarasenko V F, Rybka D B et al Russ Phys J 50 944 (2007)

© Успехи физических наук, 1918–2024
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение