Плазма резонансного излучения (фоторезонансная плазма)
И.М. Бетеров,
А.В. Елецкий а,
Б.М. Смирнов б
а Национальный исследовательский центр «Курчатовский институт», пл. акад. Курчатова 1, Москва, 123182, Российская Федерация
б Объединенный институт высоких температур РАН, ул. Ижорская 13/19, Москва, 127412, Российская Федерация
Рассмотрена плазма, образованная в результате воздействия на газ монохроматического излучения, частота которого соответствует энергии резонансного перехода в атоме. Анализируются экспериментальные методы создания и исследования плазмы данного типа. Исследована кинетика формирования фоторезонансной плазмы, включающая в себя процессы столкновений с участием возбужденных атомов, приводящие к образованию молекулярных ионов и высоковозбужденных атомов, процессы ступенчатой ионизации и тройной рекомбинации, излучательные процессы. Фоторезонансная плазма характеризуется высокой плотностью электронов при относительно низкой электронной температуре; по этой причине в плазме данного типа легче нарушается условие идеальности. Представлены пути использования фоторезонансной плазмы. Табл. 8. Ил. 19. Библиогр. ссылок 103 (121 назв.)
|