42.72.−g Optical sources and standards 42.82.Cr Fabrication techniques; lithography, pattern transfer

Д.Б. Абраменко, П.С. Анциферов и др. «Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)» 189 323–334 (2019)
42.82.Cr, 52.25.Os, 52.59.−f, 52.70.−m, 52.77.−j (все)
К.Б. Фрицлер, В.Я. Принц «Методы трёхмерной печати микро- и наноструктур» 189 55–71 (2019)
32.80.Rm, 42.82.Cr, 61.46.−w, 68.65.−k, 81.20.−n (все)
А.Н. Рябцев, С.С. Чурилов «Спектроскопия ионизованных атомов для астрофизики и нанотехнологии» 179 305–309 (2009)
32.30.−r, 32.30.Jc, 42.82.Cr, 95.30.Ky, 97.10.−q (все)
К.Н. Кошелев, В.Е. Банин, Н.Н. Салащенко «Работы по созданию источников коротковолнового излучения для нового поколения литографии» 177 777 (2007)
42.72.−g, 42.82.Cr (все)
Г.Н. Шкердин «Проблемы интегральной оптики» 152 353–355 (1987)
01.30.Vv, 42.82.Et, 42.82.Cr, 42.82.Gw (все)
В.Б. Брагинский, В.И. Панов «Эквивалентность инертной и гравитационной масс» 105 779–780 (1971)
06.30.Dr, 07.10.−h, 07.20.−n, 42.72.−g (все)
И.Л. Фабелинский «Новые оптические методы изучения быстропротекающих процессов» 104 77–94 (1971)
42.65.Re, 07.60.−j, 42.60.−v, 42.72.−g, 42.65.Hw, 42.65.Es (все)
Л.И. Видро, Ю.П. Башаров, А.Е. Кудряшов «Дифракция френеля на круглом отверстии» 102 655–656 (1970)
42.55.Lt, 42.25.Fx, 42.79.Ag, 42.79.Bh, 42.72.−g, 85.60.Ha (все)
П. Парадоксов «Допплер-эффект при перемещении изображения» 88 585–586 (1966)
42.30.Va, 42.79.Bh, 42.72.−g (все)
М.П. Ванюков, А.А. Мак «Импульсные источники света высокой яркости» 66 301–329 (1958)
52.70.Kz, 42.72.−g, 52.80.Mg, 52.80.Qj, 52.35.Tc (все)

Указатель PACS