Выпуски

 / 

2011

 / 

Май

  

Обзоры актуальных проблем


Реакционная диффузия в наноразмерных слоистых системах металл/кремний


Национальный технический университет «Харьковский политехнический институт», ул. Фрунзе 21, Харьков, 61002, Украина

Процессы реакционной диффузии в наноразмерных материалах во многом отличаются от аналогичных процессов в объёмных материалах. В обзоре представлены основные модели и экспериментальные данные по закономерностям диффузии и фазовым превращениям в наноразмерных многослойных системах в процессе их изготовления и последующего термического отжига. Методами высокоразрешающей электронной микроскопии поперечных срезов и малоугловой рентгеновской дифракции установлена кинетика роста аморфной силицидной фазы в многослойных периодических системах Sc/Si и Mo/Si. Предложена модель диффузии атомов кремния через аморфный силицид, который в процессе роста испытывает структурную релаксацию и кристаллизацию. Исследована анизотропия диффузии и роста силицидной фазы на соседних межфазных границах раздела, измерены параметры диффузии на самых ранних стадиях диффузионного отжига.

Текст pdf (1 Мб)
English fulltext is available at DOI: 10.3367/UFNe.0181.201105c.0491
PACS: 66.30.−h, 68.35.Fx, 68.65.−k (все)
DOI: 10.3367/UFNr.0181.201105c.0491
URL: https://ufn.ru/ru/articles/2011/5/c/
000294814900003
2-s2.0-80051862417
2011PhyU...54..473Z
Цитата: Зубарев Е Н "Реакционная диффузия в наноразмерных слоистых системах металл/кремний" УФН 181 491–520 (2011)
BibTexBibNote ® (generic)BibNote ® (RIS)MedlineRefWorks

Поступила: 24 июня 2010, 21 сентября 2010

English citation: Zubarev E N “Reactive diffusion in multilayer metal/silicon nanostructuresPhys. Usp. 54 473–498 (2011); DOI: 10.3367/UFNe.0181.201105c.0491

© Успехи физических наук, 1918–2024
Электронная почта: ufn@ufn.ru Телефоны и адреса редакции О журнале Пользовательское соглашение